1、真空鍍膜（mó）電源每完成200個鍍膜程（chéng）序以上，應清潔工作室一次。方法是：用燒堿（NaOH）飽和溶液反複擦（cā）洗真空室（shì）內壁（bì），（注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶（róng）液，以免灼傷）目的是使鍍（dù）上（shàng）去的膜料鋁（AL）與NaOH發生反應，反（fǎn）應後膜（mó）層脫落，並釋放出（chū）

真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的方式堆積到資料外表（通常是非金屬資料），歸於物理氣相堆積工藝。由於鍍層常為金（jīn）屬（shǔ）薄膜，故也（yě）稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包含（hán）在金屬或非金屬資（zī）料外表真空（kōng）蒸（zhēng）鍍聚合物等非金屬功用性薄膜。在所有

真空鍍膜技術我們都不（bú）陌生，真空鍍膜就是置待鍍材（cái）料和被鍍基板於真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，並飛（fēi）行濺射到被鍍基板表麵凝聚成膜（mó）的工藝。雖然真空鍍膜技（jì）術工業化（huà）的時間並不長，隻有短短的十餘年時間，但其（qí）發展相當迅速。作（zuò）為一種環保