真空鍍膜是指在真空（kōng）環境下，將某種金（jīn）屬或金屬（shǔ）化合物以氣相的方式堆積到資料外表（通常是非金屬資料），歸（guī）於（yú）物理氣相堆積工藝。由於（yú）鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜（mó）還包含在金屬或非金屬資料外表（biǎo）真空蒸鍍聚（jù）合物等非金屬功用性薄膜。在所有

社會（huì）不斷發展，技術（shù）也（yě）是不斷得在創新。真空鍍膜電源（yuán）的運（yùn）用範圍是越來越廣泛了，真空（kōng）鍍膜技術是一種（zhǒng）新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程（chéng）技術（shù）領域的重要組成（chéng）部分。隨著（zhe）全球製（zhì）造業（yè）高速（sù）發展，真空（kōng）鍍膜技術應（yīng）用越來越（yuè）廣泛。從（cóng）半導（dǎo）體集成電路（lù）、LED、顯示器