脈衝磁控濺射電源的功能和（hé）工作原理

脈衝磁控濺射是一種用矩（jǔ）形波電壓脈衝電源代替傳統直流電源的方法。脈衝（chōng）濺（jiàn）射（shè）可以有效抑製（zhì）電弧的產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低（dī）沉積（jī）溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的（de）工（gōng）藝。

脈（mò）衝磁控濺（jiàn）射的工（gōng）作原理

一個周期有正電壓和負電壓兩個階段，在負電（diàn）壓段，電源對靶材的濺射起作用，正電壓段引入電子和靶材表麵積累的（de）正電荷，使表麵清潔，露出金屬表麵。

施加在靶（bǎ）材上的脈衝電壓與普通磁控濺射相同！對於400~500V，電源頻率在10~350KHz，在保證放（fàng）電穩定的前提下，應盡可能（néng）取低的頻率#因（yīn）為等離子體中的電子相對於離子具有較高的遷移率，所以正電壓（yā）值（zhí）隻需要（yào）負電壓的10%-20%，就可以有效地中（zhōng）和積累在靶（bǎ）表麵上的正（zhèng）電荷。占空比的選擇（zé）確保了濺射過程中靶表麵上的累積電荷可（kě）以在正電（diàn）壓階（jiē）段完全中和，從而盡可能提高占空比，實現電源的大效率。