真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金（jīn）屬化合物以氣相的方式堆積到（dào）資料外表（通常是非金屬資料），歸（guī）於（yú）物理氣相堆積工藝。由於鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬（shǔ）化（huà）。廣義的真空鍍膜還包含在金（jīn）屬或非金屬資料外表真空蒸鍍聚合（hé）物等非金（jīn）屬功用（yòng）性薄膜。在所有

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範（fàn）圍（wéi）是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一（yī）種新穎的材料合成與加工（gōng）的新（xīn）技（jì）術，是表麵工程技（jì）術領域的重要組（zǔ）成部分。隨著全球製造業高速發展，真空（kōng）鍍（dù）膜技術應用越來越廣（guǎng）泛。從半導體（tǐ）集成電路、LED、顯示器（qì）