真（zhēn）空鍍膜是指在真空環境（jìng）下，將某種金屬或金屬化合物以（yǐ）氣（qì）相的方式堆（duī）積到資料外表（通常是非金屬資料），歸於物理氣相堆積工（gōng）藝。由於鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還（hái）包含在金屬或非金屬資料外表真空（kōng）蒸鍍聚合物等非金屬功用性薄膜。在所有

社會不斷（duàn）發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範圍（wéi）是越來越廣泛了，真空鍍膜（mó）技術是一種新穎的（de）材（cái）料合成與加工的新技術，是表麵工程技（jì）術領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器