真空鍍（dù）膜（mó）和光學鍍膜差異（yì）

一、概念（niàn）差異

1.真（zhēn）空鍍（dù）膜是指（zhǐ）在高（gāo）真空條件下加（jiā）熱金屬或非金屬材料，使其在被鍍物體(金屬、半導體或絕緣體)表麵蒸（zhēng）發凝結形成薄膜（mó）的一種方法（fǎ）。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學鍍膜是指在光學元件表（biǎo）麵塗覆一層(或多層)金（jīn）屬(或介電)薄膜的工藝。在光（guāng）學（xué）元件表麵塗膜的目的是為了減少或增加光的反射、分束、分色、過濾、偏振等要求。常用的包覆方法有（yǒu）真空包覆(物理包（bāo）覆的一種（zhǒng）)和化學包覆。

二、原則差異

1. 真空鍍膜是真空應用的一個重（chóng）要方麵，它以真空技術為（wéi）基礎，利用（yòng）物理或化學（xué）方法（fǎ），吸收了（le）電子束、分子束、離子束、等離（lí）子（zǐ）體束、射頻、磁控管等一係列新技術（shù），為科學研究和實際生產提供了薄膜製備的新工藝。簡（jiǎn）單地說，就是在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物，使其凝固並（bìng）沉積在塗層（céng）物體(稱為基材、襯（chèn）底或襯底)上的方法。

2. 光的（de）幹涉（shè）在薄膜光學中有著廣泛的應（yīng）用。光學薄膜技術常用的方法是利（lì）用真空濺射在（zài）玻璃基板上塗覆薄膜，一般用（yòng）來控製基板（bǎn）對入（rù）射光束的反射率和透射率（lǜ），以滿足不同的需要。為了消除光學元件表麵的反射損耗，提（tí）高成（chéng）像質量，在表麵塗覆一（yī）層或多層透明（míng）的介電膜，稱為（wéi）防（fáng）反（fǎn）射膜或防反射膜。

隨著激（jī）光技術的發展，對膜層的反射率和（hé）透射率有了不同的要求（qiú），促進了多層高反射（shè）膜和寬帶（dài）增透膜（mó）的發展（zhǎn）。為滿足各種應用的需要，采用高反射膜製造偏光反射膜（mó）、彩（cǎi）色光譜膜、冷光膜、幹涉濾光片等。光學元件表麵塗覆後，光在膜層上多（duō）次反射和透射，形成多束幹涉。通過控製膜層的折（shé）射率和厚（hòu）度（dù），可以得到不同的光強分布（bù），這是幹（gàn）涉鍍膜的基本原（yuán）理（lǐ）。

三、方法（fǎ）和材料的差異

1. 材料采（cǎi）用真（zhēn）空鍍膜法:

(1)真空蒸（zhēng）發鍍膜:對待（dài）鍍膜基（jī）材進（jìn）行（háng）清洗後，置於鍍膜室（shì）內，將其抽離，並將（jiāng）膜材加熱至高溫，使蒸（zhēng）汽達到13.3Pa左右（yòu），蒸汽分子飛向基材表麵（miàn），凝結成薄膜。

(2)陰極濺射鍍:將待鍍基材置於陰極對麵，將惰性氣體(如氬（yà）氣)引入真（zhēn）空（kōng）室，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰（yīn）極接2000V直流電源激發輝（huī）光放電。帶正電的氬離子與陰極碰撞，使（shǐ）陰極射出原子。濺（jiàn）落的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金（jīn）屬或（huò）有機化合物進行熱分解得到沉積（jī）薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上（shàng）是真空蒸發和陰極濺射的有機結合（hé），結合了兩者的工藝（yì）特點。各種塗（tú）裝方式的優缺點如表6-9所示。

2. 光學鍍膜方法材料

(1)氟化鎂:一種純度高的無色四方結晶粉末。用它來製作光（guāng）學鍍膜可以提高透光（guāng）率，防止坍塌點。

(2)二氧化矽:無色（sè）透明晶體，熔點高（gāo），硬度高（gāo），化（huà）學（xué）穩定性好。純度高（gāo），用它製備高質量（liàng）的SiO2塗層，蒸發狀態好，無（wú）坍塌點。根據（jù）使用要求分為紫外線、紅外線和可見光。

(3)氧化鋯:白色重晶（jīng）態，高折射率，耐高溫。化學性質穩定，純度高（gāo）。可用於製（zhì）備（bèi）無斷裂點的高質量氧化鋯塗層。