真空鍍膜（mó）和光學鍍膜差（chà）異

一、概念差異

1.真空鍍膜是指在高真空條件（jiàn）下加熱（rè）金屬或非金屬材料，使其在被鍍物體(金屬、半導體或絕（jué）緣體)表麵蒸發凝（níng）結形（xíng）成（chéng）薄（báo）膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學鍍膜是指在光學元（yuán）件表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電（diàn）)薄膜的工藝。在光（guāng）學元件表麵塗膜的目的是為（wéi）了減少或（huò）增（zēng）加光（guāng）的反射、分束、分色、過濾、偏振等要求。常用的包覆方法（fǎ）有真空包覆（fù）(物理包覆的一（yī）種)和化（huà）學包覆。

二、原則差（chà）異

1. 真空鍍膜是真空應用的一個重要方麵，它以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸收了（le）電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等一（yī）係列新技術，為科學研究和實際生產提供了薄膜製備的新工藝。簡單地說，就是在真空中蒸（zhēng）發或濺射金屬、合金（jīn）或化合物，使其凝固並沉積在塗層物體(稱（chēng）為基材、襯底或襯底)上（shàng）的方（fāng）法。

2. 光（guāng）的幹涉在（zài）薄膜光（guāng）學中有著廣泛的應用。光學薄膜技術常用的方法是利（lì）用（yòng）真空濺射在玻璃基板上塗覆薄膜（mó），一般用來控製基板對入射光束的反射（shè）率（lǜ）和透射率，以滿足不同的需要。為了消除（chú）光（guāng）學元件表（biǎo）麵的反射損耗，提高成像（xiàng）質量，在表麵塗覆一層或多層透明的介電膜（mó），稱為防反射膜或防反射膜。

隨（suí）著（zhe）激光技術（shù）的發展，對膜（mó）層的反射率（lǜ）和（hé）透射率有了不同的要（yào）求，促進了多層高（gāo）反射膜和寬帶增透膜的發展。為滿足各種應用的需要，采（cǎi）用高反射膜（mó）製造偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜、幹涉濾光片等。光學元件（jiàn）表麵（miàn）塗覆後，光（guāng）在膜層上（shàng）多（duō）次反射和透射，形成多束幹涉。通過控製膜層（céng）的（de）折射率和厚度（dù），可以得到不同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本原理（lǐ）。

三、方法和材料的差異

1. 材料采用真空鍍膜法:

(1)真空蒸發鍍膜:對（duì）待鍍膜基材進行清洗後，置於鍍膜室內，將（jiāng）其抽離，並將膜材加熱至高溫，使蒸汽達到13.3Pa左右，蒸汽分子飛向基材表麵，凝結成（chéng）薄膜。

(2)陰極濺射鍍:將待鍍基材置於陰極對麵，將惰性（xìng）氣體(如氬氣)引入真空室，保持壓（yā）力約1.33-13.3Pa，然後將陰極接2000V直流電源激發輝光放（fàng）電。帶正電（diàn）的氬（yà）離子與陰極碰撞，使陰極射出原子。濺落（luò）的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上，形（xíng）成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通（tōng）過對選定的金屬或有機化（huà）合物進行熱分解得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發和陰極濺射（shè）的有（yǒu）機（jī）結合，結合了兩者的（de）工藝特點。各種塗裝方（fāng）式的優缺點如表6-9所示。

2. 光（guāng）學鍍膜方法材料

(1)氟化鎂:一種純度高的無色四方結晶粉末。用它來製作光學鍍膜可以提高透光率，防止坍塌點。

(2)二氧化矽:無色透明晶體（tǐ），熔點高，硬度高，化（huà）學穩定性好。純度高，用它製備高質量的SiO2塗層，蒸發狀態（tài）好，無（wú）坍塌點。根據使用要求分為紫外線、紅外線和可見光（guāng）。

(3)氧化鋯:白色重晶（jīng）態（tài），高折（shé）射率（lǜ），耐高溫。化學性質穩定，純度高。可用於製備無斷裂點的高質量氧化鋯塗層。