有必要對真(zhēn)空鍍膜電(diàn)源設備的部件表麵進行清潔,因為如果(guǒ)受到外界環境的影響,真空係統將無法正常使用,無法達到高真空度。
此外,在雜質存在的情況下,真(zhēn)空元件的連(lián)接和密封都(dōu)會受到影響(xiǎng)。
汙染物雜質對於真空來說是完(wán)全無用的物質,多弧離子鍍膜機根據雜質的狀態將其分(fèn)為固體雜質、氣體雜質和液體雜質,它們以顆粒的形式存在。從化學的角度來看,它既(jì)可以是離(lí)子的,也可以是共(gòng)價的,既可以是有機的,也可以是無機的。

暴露在外的外表麵較容易被汙(wū)染,而(ér)且汙染的種類很多,通常是一(yī)開始自身操作形(xíng)成的。
應注意表麵吸附、化學反應、清(qīng)洗和幹燥過程(chéng),以及各種操作過程中機械汙漬和(hé)表麵汙染物增加的(de)可能性。
前期開始注意機器的保養和清洗,可以減少後期的很多麻煩,防止濺射鍍(dù)膜機各種小問題的發生,提高工(gōng)作效率,對真空鍍膜機的鍍膜質量起到非常重要的作用。
它可(kě)以較大限度地提高真空(kōng)係統壁和其他機器配件在不同情(qíng)況下的穩定(dìng)性。