真空鍍膜機幾種（zhǒng）鍍膜方法介紹

真空鍍（dù）膜設備的鍍膜工藝有很多。簡（jiǎn）單來說，就是利用蒸（zhēng）發、濺射等方法，在（zài）真空環境下發射薄膜顆粒，將其沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導（dǎo）體、塑料件等物體（tǐ）上（shàng），形成客戶需要的各種塗層。在日常（cháng）生活中（zhōng）較為常見的技術有真空蒸發、濺射鍍膜、離子鍍膜等

真空蒸發鍍膜:原理是用蒸發器在（zài）真空（kōng）條件（jiàn）下（xià）加熱薄膜材料，使其汽化或升（shēng）華。蒸發的（de）粒子流直接指向基（jī）材，在基材上沉積固體薄膜。蒸發又可分為電子束蒸發、電阻蒸發、感應蒸發等

濺射鍍膜:在真（zhēn）空條件下，對陰極施加高壓（yā）電激（jī）發輝光放電，帶正電的氬離子與（yǔ）陰極靶（bǎ）材碰撞，使其射出薄膜（mó）顆粒，沉積在基材上，形成薄膜層。

離子塗層:離子塗層通常是指（zhǐ）在塗層過程中產生（shēng）大量離子的塗層方（fāng）法。在（zài）膜（mó）的形成過程中，基底不（bú）斷受到高能粒子的轟（hōng）擊，膜層的強度和附著力非常（cháng）強。當離子鍍用於生產高精度膜層時，可以過濾掉大顆粒離子，從而獲得（dé）高結構、高密度的膜（mó）層。

日常生活中較常用的鍍膜技術（shù）就是這三種真空鍍膜設備。具體選擇取決於要（yào）塗覆的膜層類（lèi）型、要塗覆的工件類型等。