HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具（jù）有行動穩定電壓功能，具有理想（xiǎng）的電壓陡（dǒu）降特性，
有效抑製工件表麵打火，明顯（xiǎn）提高鍍件的成品率、表麵光潔度（dù）和膜層結合力。
   B 電壓（yā）脈衝（chōng）輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控（kòng）製/模擬（nǐ）量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊（xùn）接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或（huò）MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列產品采（cǎi）用先進的DSP控製係統（tǒng），充分保證（zhèng）鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵（miàn）清洗工（gōng）藝的穩定性，又（yòu）提高了（le）靶麵清洗速度；
主要參數均可大範（fàn）圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適（shì）用於特殊鍍（dù）膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子（zǐ）轟（hōng）擊和鍍膜時的離子加速（sù）等（děng）。

社會不斷發展，技術也是不斷得在（zài）創新。真（zhēn）空鍍膜電源的（de）運（yùn）用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種（zhǒng）新穎的（de）材料合成與加工的新技（jì）術，是表麵工程技術領域（yù）的重（chóng）要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器（qì）、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥（yào）等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求（qiú）都在不斷（duàn）增加，包括製造大規模集（jí）成電路的電學膜；數字式縱（zòng）向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機顯示（shì）用的感光膜；TFT、PDP平麵（miàn）顯示器上的導電膜和（hé）增透膜（mó）；建築（zhù）、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜（mó）、阻（zǔ）隔膜；裝飾材（cái）料上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表（biǎo）麵上（shàng）應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方（fāng）麵的各種功能性（xìng）薄膜等。對於國內（nèi）真空鍍（dù）膜（mó）設備製（zhì）造企業發展建議如（rú）下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真（zhēn）空鍍膜設備製造企業應著（zhe）力進行產業結構優化（huà）升級，重質量、重服務明（míng）確市場（chǎng）定位，大力研（yán）發擁有自主知識產權的新產（chǎn）品新工藝（yì），提高產品質量和服務（wù）水（shuǐ）平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業（yè）化，以工業化促進信息化”，走出（chū）一條科技含量（liàng）高、經濟效益好、資源（yuán）消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到（dào）充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府（fǔ）支持，大力加強與擁有行業先進（jìn）技（jì）術和工（gōng）藝水平的科研院所、大型企業、高校合作，使得（dé）新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術（shù）及設備擁有十（shí）分廣闊的應用領（lǐng）域和發展前景。未來真空鍍（dù）膜設備（bèi）行業等製（zhì）造業將以信息（xī）化融合為（wéi）重心，依（yī）靠技術進步，更加注重技（jì）術能力積累，製造偏（piān）向（xiàng）服務型，向世界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。