HVP高壓窄脈（mò）衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定（dìng）電壓功能，具有理想的電壓陡降特（tè）性（xìng），
有效抑製工件表麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光（guāng）潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
采用先進的PWM脈（mò）寬調（diào）製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體積（jī）小、重（chóng）量（liàng）輕（qīng）、功能全、性能穩（wěn）定可靠（kào），生產工藝嚴格完善。
該係（xì）列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍（dù）膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑製靶（bǎ）材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的（de）負載匹（pǐ）配能（néng）力，既保證了靶麵清洗工（gōng）藝（yì）的穩定性，又（yòu）提高了靶麵清洗速度；
主要（yào）參數均可大範圍連續調節；
方便維（wéi）護，可靠性高；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被（bèi）鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜（mó）前的離子轟擊和鍍膜時（shí）的離子加速（sù）等。

社會不斷發（fā）展，技（jì）術也是不（bú）斷得在創新。真空鍍膜（mó）電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程（chéng）技術領（lǐng）域（yù）的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從（cóng）半（bàn）導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發（fā）展來看，對真空鍍膜設備、技（jì）術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的（de）電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的（de）數據記錄儲存（cún）膜；充分展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器（qì）上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域（yù）用防護膜、阻隔膜（mó）；裝飾材料上具體各種（zhǒng）功能裝（zhuāng）飾效果的功能膜；工、模具表麵上應用（yòng）的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空鍍膜設備製造企業發展建（jiàn）議如下：

1、目前實體經（jīng）濟走勢整體疲弱，複蘇充滿（mǎn）不確定性，經（jīng）濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進行產業結（jié）構優化（huà）升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自（zì）主知識產權（quán）的（de）新產品新工藝，提高產品質量和服務（wù）水平。

2、依托信息化發（fā）展趨勢，堅持“以信息（xī）化帶（dài）動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量（liàng）高、經濟效益好、資（zī）源消（xiāo）耗低、環境汙（wū）染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工（gōng）藝水平的科研院所、大型企業（yè）、高校合（hé）作，使得新品能迅速（sù）推向市（shì）場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用（yòng）領域和發展前景（jǐng）。未來真空鍍膜設（shè）備行業（yè）等製造業將以信息化融合為重心，依靠（kào）技術（shù）進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端（duān）挺進（jìn）。