HVB高压双极清洗（xǐ）电源

主要型号：

主要特点：

   A 采用先进的电流型开关电源技（jì）术，减小输（shū）出储能（néng）元件，
同时（shí）提高（gāo）了（le）抑制打火及重启速度（dù）。
   B 具备恒流/恒（héng）功率模（mó）式可（kě）选。
   C 具有理想的电压陡降特性，自动识（shí）别伪打火现象（xiàng），
充分满（mǎn）足轰击清洗（xǐ）过程的连续性。
   D 主要参数（shù）可大范围调节。
   E 可选择手动控制（zhì）/模拟量接口控制，可选配（pèi）RS485通讯接口。
采用先进的PWM脉宽调制技（jì）术，使用（yòng）进口IGBT或（huò）MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，生产工（gōng）艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且（qiě）具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能，
具有极佳的负载匹配能力，既（jì）保证了靶面清（qīng）洗（xǐ）工艺（yì）的稳定（dìng）性，又提高了靶面清洗速度（dù）；
主要参数均可大范围连续调节；
方便维护，可靠性高；
PLC接（jiē）口（kǒu）和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。

主要用途：

MSB高压双极（jí）清洗电源适用（yòng）于工件镀膜前的高压轰击清洗和镀硅油保护膜。

在高技术产业化的发展中（zhōng）展现（xiàn）出诱人的市场（chǎng）前景。这种的真空（kōng）镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用。真空镀膜技术是真空（kōng）应用（yòng）技术的一个重要分支，它已广泛地应（yīng） 用于光学、电子学、能源开发、理化仪器、建筑机械、包装、民用制品（pǐn）、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀．溅射（shè）镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。这种真空（kōng）镀膜电源优势会体现的比较明显。

选用了领先的PWM脉（mò）宽调制技（jì）术，具有杰出（chū）的动态特性和抗干扰（rǎo）才能，动态呼应时（shí）刻小于10mS。规划有电压、电流双闭环（huán）操（cāo）控电路，可实时对输出电压（yā）电流的操（cāo）控，能有用处理（lǐ）溅射过程中阴极靶（bǎ）面的不清洁导致弧（hú）光（guāng）放电造成大电流冲击导致电源的损坏疑问（wèn）。选用数字化DSP操控技术，主动操控电源的恒压恒流状况（kuàng）。在起弧和维弧时能主动疾速操控电压电流使起弧和维弧作业更（gèng）安稳。

真空室里的堆积条件跟着时刻发作改（gǎi）动是常见的表象。在一（yī）轮运转过中，蒸发源的特性会跟着膜材的耗费而（ér）改动，尤其是规划中触及（jí）多层镀膜时，假如技术进程需继续数个小时，真空室的热梯度也会上升。一起，当真空室内（nèi）壁发作堆积变脏时，不（bú）一样次（cì）序的工效逐步（bù）发生（shēng）区别。这些要（yào）素虽然（rán）是渐进的并可（kě）以进行（háng）抵偿，但仍然大概将其视为体系公役的一部（bù）分。