MSDP單極脈衝磁控（kòng）濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明（míng）顯改善靶（bǎ）麵（miàn）電荷積累現象（xiàng），減小濺射表麵的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有（yǒu）平（píng）均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足（zú）磁控濺射工（gōng）藝過程的連續性。
   C 空載電壓（yā）≥1000V，工作電（diàn）壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量（liàng）接口控（kòng）製，可選配RS485通訊接口。
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關（guān）器件，
體積小、重量輕、功（gōng）能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的（de）DSP控製係統，充分保證鍍膜工（gōng）藝的重（chóng）複性，
並且具有抑製靶（bǎ）材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹（pǐ）配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便維護（hù），可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動（dòng）化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射適用於金（jīn）屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物（wù）及碳化物膜。

鏡片在接（jiē）受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗（xǐ）要求很高，達到分子級。在清（qīng）洗槽中分（fèn）別放置各種清（qīng）洗液，並采用超聲波加強清（qīng）洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙（cāng）內，在此過程中要（yào）特別注意（yì）避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再（zài）黏（nián）附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表（biǎo）麵（例如用氬離子），完成此（cǐ）道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電（diàn）源為什麽在現在會應用（yòng）那麽多呢，有哪些（xiē）明（míng）顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍（dù）膜是指在高真空的條件下加（jiā）熱金屬或非金屬材料，使其（qí）蒸發並凝結於（yú）鍍（dù）件（jiàn）（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形（xíng）成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真（zhēn）空鍍鉻等。

2、光學鍍膜（mó）是指在光學（xué）零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光（guāng）學零件（jiàn）表（biǎo）麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法（fǎ）有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。