脈衝磁控濺射是一種用矩形波（bō）電壓脈衝電（diàn）源代替傳統直流電源的（de）方法。脈衝濺射可以有效抑製電弧的產生，消除（chú）由此產生的薄膜缺陷（xiàn），同時可以提高濺射的沉（chén）積速率，降低沉（chén）積溫度（dù）等一係列（liè）顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的工藝。脈（mò）衝磁控濺射的工作原理一個周期有正（zhèng）電壓