脈衝（chōng）磁控濺射電源的功能和工作原理

脈衝磁控濺射是一種用（yòng）矩形（xíng）波電壓脈衝電源代替傳統直流（liú）電源的方法。脈衝濺射可以有效（xiào）抑製電弧的產生（shēng），消除由此（cǐ）產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣（yuán）材（cái）料沉積的工藝。

脈衝磁控濺射的工作（zuò）原理

一個周（zhōu）期（qī）有正電壓和（hé）負電壓兩個階（jiē）段，在負電壓段，電源對（duì）靶材（cái）的濺射起作用，正電壓段引入電子和靶材表麵積累的正電荷，使表麵清潔，露出金屬表麵（miàn）。

施加在靶材上的脈衝（chōng）電壓與普通磁控濺射相同！對於400~500V，電（diàn）源頻率在10~350KHz，在保（bǎo）證放電穩定的前提下（xià），應盡（jìn）可能取低的頻率#因為等（děng）離子體中（zhōng）的電子相對於離子具（jù）有較高的遷移率，所以正電壓值（zhí）隻需要負電壓的10%-20%，就可以有效地中和（hé）積累（lèi）在靶表（biǎo）麵上的正電荷。占空（kōng）比的選擇確保（bǎo）了濺（jiàn）射（shè）過程中靶表（biǎo）麵上的累積電荷可（kě）以在正電（diàn）壓階段完全中和，從而盡可能提（tí）高占空比，實現（xiàn）電源的大效率。