脈衝磁控濺射電（diàn）源簡介

說起（qǐ）單極脈衝磁控濺射電源，可能有點困（kùn）惑，但我想說的是，它是（shì）對直流磁控濺射電源（yuán）的升級，是不是突然明白了？脈（mò）衝磁控濺射是用矩形波電壓脈衝電源代替傳統直流電源的一種方法。脈（mò）衝濺射可以有效地（dì）抑（yì）製電弧的產生，消除由此產生的薄（báo）膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低（dī）沉積溫度等一係列顯著優（yōu）點，是濺射絕緣材料沉積的精選工藝。一個周（zhōu）期有正電（diàn）壓和負電壓兩個階段，在負電壓段中，電源作用於靶材的濺射，正電壓段（duàn）將電子（zǐ）積累的正電（diàn）荷引入靶材表麵，使表麵清潔，露出金屬表麵。施加在靶材上的脈衝電（diàn）壓（yā）與一般磁控濺射的脈衝電壓相同！對於（yú）400~500V，電源頻率（lǜ）在10~350KHz，在保證穩定放電的前提下（xià），應盡可能低地取頻率#因為等離（lí）子體中的電子相對於離子具有更高的遷移率（lǜ），所以正電（diàn）壓值隻（zhī）需要是負電壓的10%到20%，就可以有效地中和積（jī）聚在（zài）靶表麵的正電荷。占空比的選擇確（què）保了濺射過程（chéng）中靶表麵積累的電荷在（zài）正電壓階段可以完全被中和，從而盡（jìn）可能地提高占空比，以實現電（diàn）源的較大效率。

單極脈衝磁控濺射電源的優點是，它可以有效地抑製電弧的產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高（gāo）濺射的沉積速率（lǜ），降低沉積溫（wēn）度等一係列顯著優點，是（shì）沉積濺射絕緣材料的較佳工藝（yì）