離子源電源理想的磁場設計

離子源電源理想的磁場設計體現為：一方麵盡可（kě）能擴大磁場橫向分量的麵積與強度，另一方麵樶大程度的（de）控製和限製弧斑的運動。由於（yú）工（gōng）具鍍膜持續時間較長，對膜層的（de）性能要求較高，工業（yè）應用的離子鍍弧源應具備以下幾點特性：(1)放（fàng）電穩定，不經常滅弧；(2)弧斑運動約束合理，不跑（pǎo）弧；(3)靶材利用率高；(4)弧斑細膩，放電功率密度小，大顆粒（lì）少；(5)等離子體密度以及離化率高，向（xiàng）工件輸運（yùn）的等（děng）離子體通量足夠。

真（zhēn）空鍍膜電源技術的離子源電（diàn）源：提高工具、模具的加（jiā）工（gōng）質量和使用壽命一直是人們不斷（duàn）探索的課（kè）題。電弧離子鍍技術是一種工模具材料表麵改性技術，具有離化率高、可低溫沉積、膜層質（zhì）量好以及沉積速率快等其他鍍膜方式所不具備的優勢，已在現代工具以及（jí）各種模（mó）具（jù）的表麵防護取得了理想的應用效（xiào）果（guǒ）。但是（shì），電弧放電導致的大顆粒存在限製了工模（mó）具（jù）塗層技術的進一步應用，也成為（wéi）後期電弧離子（zǐ）鍍（dù）技術發展的主要論題。

離子鍍弧源是（shì）電弧等（děng）離子體放電的源頭，是離子鍍（dù）技術的關鍵部件。電弧離子鍍采用（yòng）的弧源是（shì）冷陰極弧源，這種弧（hú）源中（zhōng）電弧的行為被陰極表（biǎo）麵許（xǔ）多快速遊動、高度明（míng）亮的陰極（jí）斑點所控製。在發展和完善電弧離子鍍技術的過程中，對電弧（hú）陰極斑點運動的有效控製（zhì）至關（guān）重要，因為這決定了電弧放電的穩定性、陰極（jí）靶材的有效利用（yòng）、大顆粒的（de）去除、薄膜質量的改善等諸多關鍵問題的解決。國內外一（yī）直致力於這方麵的工作，研究熱點主要集（jí）中（zhōng）在（zài）磁場控製的弧源（yuán）設計（jì）上。由於真（zhēn）空鍍膜電源電弧的物理特性，外加電（diàn）磁場是控製弧斑運動的有效方法，目（mù）前所有的磁場設計（jì）都是考慮在靶麵形（xíng）成一（yī）定（dìng）的磁場位形，利用銳角法則（zé）限製弧斑的（de）運動軌跡，利用橫向分量提高弧斑的運動速度。