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真空鍍膜電(diàn)源

離子源電源的用途

2024-06-01 15:00:51

離子源電源主要利用離子(zǐ)氣體轟擊基材,較好地清洗基材表麵的油(yóu)漬,增強塗層後的附著力。隨著市場對產品質量的要求越(yuè)來越高,真空鍍膜廠家也想出了各種方法(fǎ)來提高產品質量,以滿(mǎn)足客戶的檢測要求。離子源電源(yuán)旨在從生產源頭(tóu)控製質量。


真空鍍膜的生產過程中(zhōng),鍍膜前要(yào)對(duì)基(jī)材進行清洗(xǐ),否則看不見的汙垢(gòu)會造成鍍(dù)膜後顏色不均勻。較為常(cháng)用(yòng)的方法是超聲波清洗。但它不同於離子源電源產生的離子氣轟(hōng)擊清洗。在真空狀態下,離子氣體(tǐ)在電場的作用下高速運動,在襯底表麵產生物(wù)理碰撞,離(lí)子氣體的能量足以去(qù)除各種汙染物。離子源電源近兩年來逐漸(jiàn)被真空鍍膜廠家所接受(shòu)。

離子源電源

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