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真空鍍膜電源
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離(lí)子源電源的(de)用途

2024-06-01 15:00:51

離子(zǐ)源電源主要利用離子氣體轟擊基材,較好地清洗基材表麵的油漬,增強塗層後的附著力。隨著市場對產品質量(liàng)的要求越來越高,真空鍍膜廠家也想出了各種(zhǒng)方法來提高產品質量(liàng),以(yǐ)滿(mǎn)足客戶的檢測要求。離子源電源旨在從生產源頭(tóu)控製質量。


真空鍍膜的生產過程中,鍍膜前要對基材進行清洗,否則看不見的汙垢會造(zào)成鍍膜後(hòu)顏色不(bú)均勻。較為常用的方法是超聲波清洗。但它不同於離(lí)子源電源產生的離子氣轟擊清洗。在真(zhēn)空狀態下,離子氣體在電場的作用下高速運動,在襯底表麵產生物理碰撞,離子氣體的能量足以去除各種汙染(rǎn)物。離子源(yuán)電源近兩年來逐漸被真空鍍膜(mó)廠家所接受。

離子源電源

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