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真空鍍膜電源廠家（jiā）的在真（zhēn）空（kōng）離子鍍膜中，尤其對於多弧離子鍍膜，無論是裝（zhuāng）飾鍍還（hái）是（shì）工具鍍，轟偏電源的好壞對於成膜質量都起著非常關鍵的作用。裝飾鍍和工具鍍對膜層質量的要求（qiú）有相同之處又各有側重。
離子鍍是真空室中，利用（yòng）氣體（tǐ）放（fàng）電或被蒸發物質（zhì）部分離化，在氣體離子或被蒸發物質（zhì）粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把 輝光放電現象、 等（děng）離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改（gǎi）進了（le）膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。多弧電源其優點是薄膜 附著力強（qiáng），繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離子鍍原（yuán）理，起工（gōng）作過程是（shì）：
先將真空室抽至4×10（-3）帕（pà）以（yǐ）上的真空度，再（zài）接通高（gāo）壓電（diàn）源，在蒸發源與基片之間建立一個低壓氣體放電的 低（dī）溫等離子區。基片（piàn）電極接上5KV直流負高壓，從而形成光放電陰極。輝光放電去產（chǎn）生的惰性氣體離（lí）子進入陰極暗區被電場加速並轟擊基片表麵，對其進行清洗。然後計入（rù）鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子（zǐ）進入等離子區，與惰性氣體離子及（jí）電子發生碰撞（zhuàng），少部分產生離化。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表麵，致使膜層質量得到改善。
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