真空鍍膜應用的主要方法

真空鍍膜應用，簡（jiǎn）單來說就是指在（zài）真空環境下，利用蒸發、濺射以及後續的冷凝等方法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑料（liào）件等（děng）物體上沉積金屬薄膜或塗（tú）層。真空鍍膜應用與傳（chuán）統鍍（dù）膜方法相比，屬於幹式鍍膜方法，其主要方法有以下幾種:

真（zhēn）空蒸發鍍膜

原理是用蒸發器在真空條件下加熱蒸發的（de）物質，使其（qí）蒸發或升華。蒸發的離（lí）子流直接指向襯底，在襯底上沉積固體薄（báo）膜。

濺射沉積

濺射鍍膜是在真空條件下，對陰極（jí）施加2000V的高壓激發輝（huī）光放（fàng）電的過程。帶正電（diàn）的氬離子與陰極碰撞，使（shǐ）其釋放出原子，這些原子隨後（hòu）在（zài）惰性氣氛中沉積在襯（chèn）底上，形成一層薄膜。

離子塗層

幹式螺杆泵生產廠家已經推出了真空離子鍍膜。它是在上述兩種真空鍍膜技（jì）術的基礎上，結合了兩者（zhě）的工藝特點而發展起來的（de）。在真空（kōng）條件（jiàn）下，用氣體放電使工作（zuò）氣體或蒸發物質(膜材料（liào）)部（bù）分（fèn）電離，在離子轟擊下，蒸發物質或其（qí）反應（yīng）物沉積在襯底表麵。在膜的形成過程中，基底總是受到高（gāo）能粒子的轟擊（jī），使其非常幹淨。

真空繞組（zǔ）鍍膜

真空纏繞鍍（dù）膜是一種利用物理氣相沉積對柔性基材進行（háng）連（lián）續鍍（dù）膜的技術，以達到柔性基材的某些功能和裝飾性能。