真空鍍膜機幾種鍍（dù）膜方（fāng）法介紹

真空鍍（dù）膜設（shè）備的鍍膜（mó）工藝有很（hěn）多。簡單來（lái）說，就是利用蒸發（fā）、濺射等方法，在真空環境下（xià）發射薄膜顆粒，將其沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑（sù）料（liào）件（jiàn）等（děng）物（wù）體上，形成客戶需要的各種塗層（céng）。在日常生活中較為常見的技術有真空蒸發、濺射鍍膜、離（lí）子鍍膜等

真空蒸發（fā）鍍膜（mó）:原理是用蒸發器在真空條件下加（jiā）熱薄（báo）膜材料，使（shǐ）其汽化或升華。蒸發的粒子流直接（jiē）指向基材，在基材上沉積固體薄（báo）膜。蒸（zhēng）發又可分為（wéi）電子束蒸發、電阻蒸發、感應蒸發等

濺射鍍膜:在（zài）真空條件下，對陰極施加高壓電激發輝光放電（diàn），帶正（zhèng）電的氬離子與陰極靶（bǎ）材碰撞，使（shǐ）其射出薄膜（mó）顆粒，沉積在基材上，形（xíng）成薄膜層。

離子塗層:離子（zǐ）塗層通常是指在塗（tú）層過程中產生大量離子的塗層方法。在膜的形（xíng）成過程中，基底不斷受到高能粒（lì）子的轟擊，膜層的強度和附著力非常強。當離子鍍用於生產高精度膜（mó）層時，可以過濾掉大顆粒離子，從而獲得高結構、高密度的（de）膜層（céng）。

日常生活中較常（cháng）用的鍍膜技術就是這三種真空（kōng）鍍膜設備。具體選擇（zé）取決於要塗覆的膜層類型、要塗覆的工件類型等。