進口標杆:TRUMPF Hüttinger TruPlasma HiPIMS 4000/6000 係列
長期穩定性:≤±0.1%,納秒級脈衝控製,工業級 7×24h 連續運行。
適用:高端硬質膜、DLC、半導體 / 光學精密鍍膜。
國產對標:精新 JX-HiPIMS 係列、新鉑 HiPIM5-100A
精新:長期(qī)穩定度5×10⁻⁴(萬分之五),雙機製智能抑弧,可替(tì)代霍廷格同檔。
新鉑 HiPIM5-100A:納(nà)秒級(jí)檢測(cè)、多波形可控,智能溫控,適配(pèi)量產。
進(jìn)口標(biāo)杆:TRUMPF Hüttinger TruPlasma Bias 4020 係列
電(diàn)壓精度 **±0.5%,頻率穩定性30ppm**,寬負載適(shì)配(阻抗比(bǐ) 1:100)。
國產優選:精(jīng)新 JX-MSB 係列、英能 MS 係列
精新 JX-MSB:1kHz–150kHz 寬頻,脈寬(kuān) 3μs–495μs 可調,電(diàn)壓精度 **±0.5%,重複性(xìng)≤±0.2%**,兼容霍廷格 4020 接口。
英能 MS 係列:抑弧響應 **<500ms**,恒壓 / 恒流 / 恒功率三模式,效率 **≥90%**。
進口標杆:ADL GX 係(xì)列、AE MDX 係列
長期(qī)紋波 **<0.1%,輸出穩(wěn)定度±0.05%**,適合光學 / 半導體鍍膜。
國產優選:精(jīng)新(xīn)高穩定直流係列
長期穩定度5×10⁻⁴,參與(yǔ)國家大科學工程,適配嚴(yán)苛真空環(huán)境。
長期輸出穩定度:高端型號 **≤±0.1%(萬分之(zhī)一),普通≤±0.5%**。
紋波 / 噪聲:直流 **<0.1%,脈衝(chōng)<1%**,越低越穩。
抑弧響應速度:<500μs–1ms,保護靶材(cái)與腔體。
控製精度:電壓 / 電流 **±0.1%–±0.5%,頻率ppm 級 **。
可靠(kào)性設計:寬電壓輸入、寬溫、智能溫控、7×24h 連續運行能力。
高端精密 / 量產:優先霍廷格 HiPIMS/Bias 4000/4020 係列;國產選精新 JX-HiPIMS/JX-MSB、新鉑 HiPIM5-100A。
中頻 / 常規濺射:英能 MS 係列、精新中頻電(diàn)源,性(xìng)價比與穩定性(xìng)平衡。
基礎直流 / 離子(zǐ)源:精新高穩定直流、AE MDX,長期可靠。
綜(zōng)合穩定性最強:TRUMPF Hüttinger TruPlasma HiPIMS 4000/6000、Bias 4020 係列(進口);精新 JX-HiPIMS、JX-MSB 係列(國產)。
國產高端型號已(yǐ)可對標進口,在穩定性、精度、抑弧、連續運行上接近國際(jì)水平,性價比更高。