MSD係列直流磁控濺射電（diàn）源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提（tí）高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢（shì）更為（wéi）明顯。
   B 具備恒（héng）流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模（mó）式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電（diàn）壓陡（dǒu）降特性，自動識別（bié）偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口（kǒu）控製，可選（xuǎn）配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模（mó）塊
采用先進的PWM脈寬調（diào）製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件（jiàn），
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采用先（xiān）進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗（xǐ）速度；
主要參數均可大（dà）範（fàn）圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方（fāng）便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍（dù）製各種金（jīn）屬

在電子科技（jì）快速發展的時代中，電（diàn）源的（de）應用可以說是隨處可見的，或許正是因（yīn）為電源的普遍應用，所以電（diàn）源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型（xíng）中的一種，這種電源與普通的電源有一定（dìng）的區（qū）別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上（shàng）有什麽要注意的（de）嗎？當光線進入不同（tóng）傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射（shè）掉，在光學瞄（miáo）準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學（xué）透（tòu）鏡通常（cháng）都（dōu）鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜（mó），單（dān）層增（zēng）透膜可使反射減少至1.5%，多層增（zēng）透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多（duō）層增透膜的（de）鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增（zēng）透膜增加透射光強度的實質是（shì）作為電磁波的光波在傳（chuán）播的過（guò）程中，在不同介（jiè）質的分界麵上，由於邊界條（tiáo）件的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透（tòu）過介質。一般光學透鏡都是在空氣中（zhōng）使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻（bō）璃，為使單層膜（mó）達到（dào）100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄（báo）膜（mó）的厚（hòu）度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜（mó）隻對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大範圍（wéi）內和更多（duō）波長實現增（zēng）透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的利用有了很多的經（jīng）驗，發（fā）現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少（shǎo）先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探（tàn）索等各行各業，為人（rén）類（lèi）科技進步作出了重（chóng）大貢（gòng）獻。