MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的打火（huǒ）次數，提高膜層（céng）質量。
   B 具有平均（jun1）電源穩（wěn）定功能，具有理想的電壓（yā）陡降特性，
充分滿足磁控濺射工（gōng）藝過程的連續性。
   C 空（kōng）載電（diàn）壓≥1000V，工作電壓（yā）200~800V。
   D 頻率40kHz，占空（kōng）比20%~80%。
   E 可選擇（zé）手動控製（zhì）/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用（yòng）先進的PWM脈寬調（diào）製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩（wěn）定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統，充分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電（diàn）及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶（bǎ）麵清洗工藝的穩定性（xìng），又（yòu）提高了靶（bǎ）麵清（qīng）洗速度；
主（zhǔ）要參數（shù）均可大範圍連續調（diào）節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口（kǒu）和RS485接口擴展功能，方便（biàn）實現自動化控製。

主要用途（tú）：

單極脈衝磁控濺射適用於金屬、合金（jīn）及石墨等靶材鍍（dù）製金屬膜、碳膜和（hé）部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很（hěn）高，達到（dào）分子（zǐ）級。在清洗槽中分別放置各種（zhǒng）清洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在（zài）此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內，在此過（guò）程中要（yào）特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾（jī）再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在（zài）真空艙內（nèi）鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟（hōng）擊（jī）鏡片的表麵（miàn）（例如用氬離子），完成此道清洗工序（xù）後（hòu）即進行減反射膜（mó）的鍍膜。

真空鍍膜電（diàn）源（yuán）為什麽在現在會應用那麽多（duō）呢，有哪些明顯的效（xiào）果？

概念的（de）區別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件（jiàn）表麵上鍍上一層(或（huò）多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光（guāng）的反射、分束、分色（sè）、濾光、偏振等（děng）要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和（hé）化學鍍膜。