MSDP單極脈衝（chōng）磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累（lèi）現象，減小濺射表（biǎo）麵的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定（dìng）功能，具有理想（xiǎng）的電壓陡降特性，
充（chōng）分滿足磁控濺射工藝過程的（de）連續性。
   C 空載電壓（yā）≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻（pín）率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可（kě）選擇手動（dòng）控製/模擬量接口控（kòng）製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器（qì）件（jiàn），
體積小、重量輕、功能（néng）全、性能穩定可靠，生（shēng）產（chǎn）工藝（yì）嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且（qiě）具有（yǒu）抑製靶材弧光放（fàng）電（diàn）及抗短路（lù）功（gōng）能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續（xù）調節；
方便維護，可（kě）靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功（gōng）能，方便實現自動化控製。

主要用途（tú）：

單（dān）極脈衝磁控濺射適（shì）用於金屬、合金（jīn）及石墨（mò）等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮（dàn）化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須（xū）進行預清洗（xǐ），這種清（qīng）洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別（bié）放置各種清洗（xǐ）液，並（bìng）采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後（hòu），放進真空艙內，在此（cǐ）過程中要特別注意避免空（kōng）氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的（de）清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵（chén）和垃圾再黏附在鏡片（piàn）表麵。最後的清洗是在真空艙內（nèi）鍍前進行的（de），放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜（mó）電源（yuán）為什麽（me）在（zài）現（xiàn）在會應用那麽多（duō）呢，有（yǒu）哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指（zhǐ）在高真空的條件下加（jiā）熱金（jīn）屬或非金屬材料（liào），使其蒸發並凝結於鍍件（jiàn）（金屬、半導體或絕（jué）緣體）表麵而（ér）形成薄膜（mó）的一種方法。例如，真空（kōng）鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝（yì）過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾（lǜ）光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。