直流磁控濺射和中頻磁控濺射是常見的濺射鍍膜工藝，但這兩種常（cháng）見的濺射工藝有什麽區（qū）別1.直流（liú）磁控濺射濺射與氣壓的關係——要在一定範圍內提（tí）高電離率(在盡可能低的壓力下保持（chí）較高的（de）電離率)，要提高均勻性，就（jiù）要在保證膜的純度的同（tóng）時增加壓力，而要提高膜

傳（chuán）統水電鍍因其（qí）廢水處理成本高、能耗高、水資源浪（làng）費嚴重、環境汙染嚴重等問題，一直受到國家和地方各級政府的製約。真空鍍膜設（shè）備可以替代傳統水電鍍的表麵處理方（fāng）式，實現傳統水電鍍的（de）技術升級（jí）改造。讓我們來（lái）看看它相（xiàng）對於傳統水電鍍的優勢。1.無環境（jìng）汙染由（yóu）

1.1真（zhēn）空鍍膜:在真空條件（jiàn）下（xià）在基材上製備薄膜層的方法（fǎ）。1.2底物:膜層受（shòu）體。1.3測試（shì）基材（cái）:在塗層過程（chéng）開始、過程中（zhōng）或之後用於（yú）測量和/或測試的基材。1.4塗層材料:用於製作塗（tú）層的原材料。1.5蒸發材料:真空蒸發中用於蒸發的塗層材料。1.6濺射

真空鍍膜應用廣泛，如真（zhēn）空（kōng）鍍鋁、真空鍍膜在塑料等基材上，再經過不同顏色的染色處理，可用於家（jiā）具、工（gōng）藝品、燈飾、鍾表、玩具（jù）、汽車燈具、鏡（jìng）子（zǐ）及軟包裝材料等產品的製造，裝（zhuāng）飾效果非常好。真空鍍膜技術的特點：1、塗層材料種類繁多：可作為真空鍍膜蒸發材料有

1、概念差異1.真空（kōng）鍍膜是指在高真（zhēn）空條件下加熱金屬或非（fēi）金（jīn）屬材料，使其在被（bèi）鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵蒸（zhēng）發凝結形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2.光學鍍膜是指在光學元件表麵塗覆一層（céng）(或多層)金屬(或介（jiè）電)薄膜的工藝。在光學

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要（yào）求很高，達到（dào）分子（zǐ）級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙（cāng）內，在此過程中要特（tè）別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再（zài）黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內，在此過程