真空鍍（dù）膜技術的（de）專業術語和工（gōng）藝（yì）

1.1真空鍍膜:在真空條件（jiàn）下在基材上製備薄膜層的方法。

1.2底物:膜層受體。

1.3測試基材:在塗層過程開始、過程中或之後用於測量（liàng）和/或測試（shì）的基材。

1.4塗（tú）層材料:用於製作塗層的原（yuán）材料（liào）。

1.5蒸發材料:真空蒸（zhēng）發中用於蒸（zhēng）發（fā）的塗層材料（liào）。

1.6濺射材料:真空濺射中（zhōng）用於濺射的塗層材料。

1.7膜材:構成膜層（céng）的材料。

1.8蒸（zhēng）發速率:在給定的時間間隔內，物質的蒸發量除（chú）以該時間間隔

1.9濺射率:在給定時間間隔內濺射出的材料量除以（yǐ）該時間間（jiān）隔。

1.10沉積速率:在給定時間（jiān）間隔（gé）內沉積（jī）在襯底上的材料量，除以時間間隔（gé）和襯底表麵積。

1.11塗層角:顆粒入射到基材上的方向與被塗層表麵法線之間的夾角。

2過程

2.1真空蒸發鍍膜:使塗層材料蒸發的真空鍍膜工（gōng）藝。

2.1.1同時蒸發（fā）:利用多台蒸發器將各（gè）種蒸發（fā）物質同時蒸發到基材上的（de）真空蒸發。

2.1.2蒸發場蒸發:從蒸發場同時（shí）蒸發（fā）出來的材料沉積在基片上（shàng）的真（zhēn）空蒸發過程(該過程應用於大（dà）規模蒸（zhēng）發，以達到理想的膜厚分布)。

2.1.3反應真空蒸發:膜材料通過與氣體反應而達到理想化學成分的真空蒸發。

2.1.4蒸發器反應真空蒸發蒸發器反應真空蒸發:與蒸發器內各種蒸發物質發生反應，得到理想化學成分膜（mó）層（céng）材料的真空（kōng）蒸發。

2.1.5直接加熱蒸發:蒸（zhēng）發（fā）物料蒸發所需的熱（rè）量是蒸發物料本身的蒸發(有或無坩堝)。

2.1.6感應加熱蒸發:通過感應（yīng）渦流加熱使物料蒸發。

2.1.7電子（zǐ）束蒸發（fā）:通過（guò）電（diàn）子（zǐ）轟（hōng）擊加熱材（cái）料的蒸發。