離子源電源理想的磁場設計

離子源電源理想的磁場（chǎng）設計體現為：一方麵盡可能擴大磁場橫（héng）向分量的麵積與強（qiáng）度，另一方麵樶大程（chéng）度的控（kòng）製和限製弧斑的運動。由於工具鍍膜持（chí）續（xù）時間較長，對膜層的性能要求（qiú）較高，工業（yè）應用的離子鍍弧（hú）源應（yīng）具備以下幾（jǐ）點特性：(1)放電穩定，不經常滅弧；(2)弧斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶材利用率（lǜ）高；(4)弧斑細（xì）膩，放電功率密度小，大顆粒少（shǎo）；(5)等離子體密度以及離化率高，向（xiàng）工件輸運的等（děng）離子體通（tōng）量足（zú）夠。

真空鍍膜電源技術的離子源（yuán）電（diàn）源：提高工具、模具（jù）的加工質量和使用壽命（mìng）一直（zhí）是人們不斷探索的課題。電弧離子鍍技術（shù）是一種工模具（jù）材料表麵（miàn）改性技術，具有離化率高、可低溫沉（chén）積、膜層質量好以及沉積速率快等其（qí）他鍍膜方式所不具備的優勢，已在現代工具以及各種模具的表麵防護取得了理想的應用效果。但是，電弧放電導致的大顆粒存在限製了工模具塗層技術的進一步應用，也成為後期電弧離子鍍技術發展的主要論（lùn）題。

離子鍍弧源是電弧等離子體放電的源頭，是離子鍍技術的關鍵部件。電弧離子（zǐ）鍍采用的弧源是冷陰極弧源，這種弧源中電弧的行（háng）為被（bèi）陰極表麵許多快速遊動、高度明亮的陰極斑點所控製。在發展（zhǎn）和完善電弧（hú）離子鍍技術的過程中（zhōng），對電弧陰極斑點（diǎn）運動的有效控製至關重要（yào），因（yīn）為這決定了電弧放電的穩定性、陰極靶材（cái）的有效（xiào）利用、大顆粒的去除、薄（báo）膜質量的改善等諸多關鍵問（wèn）題的解決（jué）。國內外一（yī）直（zhí）致力於（yú）這方（fāng）麵的工作，研究熱點主要集中在磁場控製（zhì）的弧源（yuán）設計上。由於真空鍍膜電源電弧的物理特性，外加（jiā）電（diàn）磁場是（shì）控製弧（hú）斑運動（dòng）的有效方法，目前所有的磁場設計都是考慮（lǜ）在（zài）靶（bǎ）麵形成一定的磁場位形，利用銳（ruì）角法則限製（zhì）弧斑的（de）運動軌跡（jì），利用橫向分量提高弧斑的運動速度。