離子源電源（yuán）理（lǐ）想的磁場設計（jì）

2020-07-15 00:00:00

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離子源電源理想的磁場設計體現（xiàn）為：一方麵盡可能擴大磁場橫（héng）向分量的麵積與強度，另一方麵樶大程度的控製和限製弧斑（bān）的（de）運動。由於工具鍍膜持續時間較長，對膜層的性能要求較高，工業應用（yòng）的離子鍍（dù）弧源應具備以下幾點特（tè）性：(1)放電穩定，不經常滅弧；(2)弧斑運動約束合理，不（bú）跑弧；(3)靶材利用率高；(4)弧斑（bān）細膩，放（fàng）電功率密度小，大顆粒少；(5)等離子體密度以及離化率高，向工件輸運的等離子體通量足夠。

離（lí）子源（yuán）電源

真空鍍（dù）膜電源技（jì）術的離（lí）子源電源：提高工具、模具的加工質量和使用壽命一直是人們（men）不斷探（tàn）索（suǒ）的課題。電弧離子鍍技術是一種工模具（jù）材料表麵（miàn）改性技術，具有（yǒu）離化率高、可低溫沉積（jī）、膜層質量好以及（jí）沉積速率快等其他鍍膜方式所不具備的優勢，已在現代工具以及各種模具的表麵防護取得了（le）理想（xiǎng）的應用（yòng）效果。但是，電弧（hú）放電導致的大顆粒存在限製了工模具塗層技術的進（jìn）一步應用，也（yě）成為後期電弧離子鍍（dù）技術發展的主要論題。

離子鍍弧源是電弧等離子體放（fàng）電的源頭，是離子鍍技術的關鍵部件。電弧（hú）離子鍍采用的弧源是冷陰極弧源，這種弧源中（zhōng）電弧的行（háng）為被陰極表麵許多快速遊動、高度明亮的陰極斑點所控製。在發展和完善電弧離子鍍技術的過程中，對電弧陰極（jí）斑點運動的有效控（kòng）製（zhì）至關重要，因為這決定了電弧放（fàng）電的穩定性、陰極靶材的有效利（lì）用、大顆粒（lì）的去除、薄膜（mó）質量的改善等諸多關鍵問題的解決。國內外（wài）一直致力於這方麵的工作，研究（jiū）熱（rè）點（diǎn）主要集中在磁場控（kòng）製的弧源設計上。由於真空鍍膜（mó）電源電弧的物理特性，外加電（diàn）磁場是控製弧斑運動的有效方法，目前所有（yǒu）的磁（cí）場設（shè）計都是（shì）考慮在靶（bǎ）麵形成一定（dìng）的磁場位形，利用銳角法則限製弧（hú）斑的運動軌（guǐ）跡，利用橫向分量提高弧斑的運動速度。