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真空鍍膜電源廠家的在真空離（lí）子鍍膜中，尤其（qí）對於多弧離（lí）子鍍膜，無論是裝飾鍍還是工具鍍，轟偏電源的好壞對於成膜質量都起著非常關鍵（jiàn）的作用。裝飾（shì）鍍和工具鍍對膜層質量的要求（qiú）有相同之處又各（gè）有側重。
離子鍍是真空室（shì）中，利用氣體（tǐ）放電或被蒸發物質部分離化（huà），在氣體離子（zǐ）或（huò）被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發（fā）物或反應物沉（chén）積在基片（piàn）上。離子鍍把 輝光放電現象（xiàng）、 等離（lí）子體技術和真空蒸發三者有機結合起來（lái），不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。多弧電源其優點是薄（báo）膜 附著力強，繞（rào）射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離子鍍原理（lǐ），起工作過程（chéng）是：
先將真（zhēn）空室抽至4×10（-3）帕（pà）以上的真空（kōng）度，再接通高壓電（diàn）源，在蒸發源與（yǔ）基片之間建立一個低壓氣體放電的 低溫等離子區。基片電（diàn）極接上5KV直流負高壓，從而形成光放電陰極。輝光放（fàng）電去產生的惰性氣（qì）體離子進入陰（yīn）極暗區被電場加速（sù）並轟擊基片表麵（miàn），對其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使（shǐ）鍍料氣化，起原子進入等離子區，與（yǔ）惰性（xìng）氣體離子及電子發生碰撞，少部分產生離化。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表（biǎo）麵，致使膜層質量得到改善。
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