真空鍍膜技術（shù）的專業術語和工藝

1.1真空鍍膜:在真空條件下在基材上（shàng）製備薄膜層的方法。

1.2底（dǐ）物:膜層（céng）受體。

1.3測試基材:在塗層過（guò）程開始、過程中或之後用於測量和/或測（cè）試的基材。

1.4塗層材料:用於製作塗層（céng）的原材料。

1.5蒸發材料:真空蒸發中用於蒸（zhēng）發的塗層材料。

1.6濺射材料（liào）:真空濺（jiàn）射中用於濺射的塗層材料。

1.7膜材:構成膜層的材料。

1.8蒸發速率:在給定的時間間（jiān）隔（gé）內，物（wù）質的蒸發量除以該時間間隔

1.9濺射率:在給定時間間隔內濺射出的材料量除以該時間間（jiān）隔。

1.10沉積速率:在給定時間間隔內沉積在襯底上的材料量（liàng），除以時間間隔和襯底表麵（miàn）積。

1.11塗層角:顆（kē）粒入射到基材上的方向與被塗層表（biǎo）麵法線之間的夾角。

2過程

2.1真空蒸發鍍（dù）膜:使塗層材料蒸發（fā）的真空鍍膜工藝。

2.1.1同時蒸發:利用多台（tái）蒸發器（qì）將各種（zhǒng）蒸發物質同時蒸發到基材上的真空蒸發。

2.1.2蒸發場蒸發:從蒸發場（chǎng）同時蒸發出來的材料沉積在基片上的真空蒸發過程(該過程應用於大規模蒸發，以達到理想的膜厚分布)。

2.1.3反應真空蒸發:膜材料通過與氣體反應而達到（dào）理想化學成（chéng）分的真空蒸發。

2.1.4蒸發器反應真空蒸（zhēng）發（fā）蒸發器反應真空蒸發:與蒸發器內各種蒸（zhēng）發物質發生反應，得到理（lǐ）想化學成分膜層材料的真空蒸發。

2.1.5直接加（jiā）熱蒸發:蒸發物料蒸發所需的（de）熱量是蒸發物料本身的蒸發(有或無坩堝)。

2.1.6感應（yīng）加熱蒸發:通過感應渦流加熱使物料蒸發（fā）。

2.1.7電子束蒸發:通過電子轟擊加熱材料的蒸發。