進口標杆:TRUMPF Hüttinger TruPlasma HiPIMS 4000/6000 係列
長期穩定性:≤±0.1%,納秒級脈衝控製,工業級 7×24h 連續運行。
適用:高端(duān)硬質膜、DLC、半導體 / 光學精密鍍膜。
國產對標:精新 JX-HiPIMS 係列、新鉑 HiPIM5-100A
精新:長(zhǎng)期穩定度5×10⁻⁴(萬分之五),雙(shuāng)機製智能抑弧(hú),可替代霍廷(tíng)格同檔。
新鉑 HiPIM5-100A:納秒級檢測、多波形可控,智能(néng)溫控,適配量產。
進口標杆:TRUMPF Hüttinger TruPlasma Bias 4020 係(xì)列
電壓精度 **±0.5%,頻(pín)率穩定性30ppm**,寬(kuān)負載適(shì)配(阻抗比 1:100)。
國產優選:精新 JX-MSB 係列、英能 MS 係列
精新 JX-MSB:1kHz–150kHz 寬頻,脈寬 3μs–495μs 可調,電壓精度 **±0.5%,重複(fù)性≤±0.2%**,兼容霍(huò)廷格 4020 接口。
英能 MS 係列:抑弧響應 **<500ms**,恒壓 / 恒流 / 恒功率三模式(shì),效率 **≥90%**。
進口標(biāo)杆:ADL GX 係列、AE MDX 係列
長期紋波 **<0.1%,輸出穩定度±0.05%**,適(shì)合光學 / 半導體鍍膜。
國產優選(xuǎn):精新高穩定直流係列
長期穩定度5×10⁻⁴,參(cān)與國家大科學(xué)工程,適(shì)配嚴苛真空環境。
長期輸出穩定度:高端型號(hào) **≤±0.1%(萬分之一(yī)),普通≤±0.5%**。
紋波 / 噪聲(shēng):直流 **<0.1%,脈衝<1%**,越低越穩。
抑(yì)弧(hú)響應(yīng)速度:<500μs–1ms,保護靶材與腔體。
控製精度:電(diàn)壓 / 電流 **±0.1%–±0.5%,頻率ppm 級 **。
可靠性設計:寬電壓輸入、寬溫、智(zhì)能溫控、7×24h 連續運行能力。
高端精密 / 量產:優先霍廷格 HiPIMS/Bias 4000/4020 係列;國產選精新 JX-HiPIMS/JX-MSB、新鉑 HiPIM5-100A。
中頻(pín) / 常(cháng)規濺射(shè):英能 MS 係列、精新中頻(pín)電源,性價比與穩定性平衡。
基礎直流 / 離子源:精新高穩定直流、AE MDX,長期可靠。
綜合穩定(dìng)性最強:TRUMPF Hüttinger TruPlasma HiPIMS 4000/6000、Bias 4020 係列(進口);精新 JX-HiPIMS、JX-MSB 係(xì)列(國產)。
國(guó)產高端型號已可對標進(jìn)口,在穩定性、精度、抑弧、連續運行(háng)上接(jiē)近(jìn)國際水平,性價比更高。