真空鍍膜電源哪（nǎ）個型號適合精密（mì）鍍（dù）膜（mó）？

一、精密鍍膜電源（yuán）選型核心門檻（必須達標）

• 穩定度：長（zhǎng）期輸出 ≤ ±0.1%（72h 滿負荷）

• 紋波：直流 / 脈衝 ≤ 0.05%–0.1%

• 精度：電壓 / 電（diàn）流 / 功率 ≤ ±0.1%–±0.5%

• 抑弧：滅弧響應 <1μs–500μs，弧能量 <0.2mJ/kW

• 阻（zǔ）抗匹配：負載阻抗比 ≥ 1:100（高端≥1:200）

• 連續運行：7×24h 無（wú）故障，MTBF ≥ 100,000h

二、按工藝場景推薦型號（進口（kǒu） + 國產對標）

1. 光學精密鍍膜（AR / 增透 / 濾光 / AF / 導（dǎo）電膜）

• 進口標杆

• 超低紋波、寬範圍（wéi）恒壓 / 恒流，適配高精度（dù）光學沉積

• 穩定度 ≤±0.1%，紋波 <0.05%，精度 ±0.1%

• 適用：光學玻璃、鏡片、顯示麵板、半導體（tǐ）晶圓

• TRUMPF Hüttinger TruPlasma DC 4000/6000 係列

• Advanced Energy (AE) Pinnacle Plus 係列（liè）

• 國產優選

• 紋波 <0.1%，穩定度 ≤±0.1%，性價比高

• 穩定度 5×10⁻⁴（萬分之五），紋波 <0.08%

• 適（shì）配光學（xué）鍍膜機，可替代進口同檔（dàng）

• 精新 JX-DC 高精度（dù）直流係列

• 英能 EPS-DC 高精度直流係列（liè）

2. 半導體 / 晶圓 / 光伏精密鍍膜

• 進口（kǒu）標杆

• 射（shè）頻 / 中頻雙模式，適配半導體量產線（xiàn）

• 13.56MHz 射頻，自動匹配（pèi），功率穩定 ±0.5%

• 適用（yòng）：PECVD、ALD、半（bàn）導體薄（báo）膜沉積

• TRUMPF Hüttinger TruPlasma RF 13.56MHz 係列

• AE RFX 係列 / Dressler Cesar 係列

• 國（guó）產優選

• 平（píng）衡（héng）輸出，抑製（zhì）打弧，適配反應濺射（SiO₂、SiNₓ）

• 自動匹配，諧波抑製，穩定度 ≤±0.5%

• 精新 JX-RF 射頻係列（13.56MHz）

• 英能 BS 係列中頻電源（40kHz）

3. 高精密硬質膜 / DLC / 超薄功能膜（HIPIMS）

• 進口標杆

• 納秒級脈衝控（kòng）製（zhì），穩定度 ≤±0.1%，弧（hú）能量 <0.2mJ/kW

• 適用（yòng）：半導體、光學、高端刀具、DLC

• TRUMPF Hüttinger TruPlasma HiPIMS 4000/6000 係列

• 國（guó）產優選

• 納秒檢測，多波形，智能溫控，適配（pèi）量產

• 雙機（jī）製抑弧，穩定度 5×10⁻⁴，可替代霍廷格同檔

• 精新 JX-HiPIMS Max 係（xì）列（liè）

• 新鉑 HiPIM5-100A

4. 脈衝偏壓 / 離子輔助（精密鍍膜標配）

• 進口標杆

• 電壓精度 ±0.5%，頻率穩定 30ppm，阻抗比 1:100

• 精密（mì）鍍膜偏壓 / 離（lí）子輔助首選

• TRUMPF Hüttinger TruPlasma Bias 4020 係列

• 國產優選

• 抑弧響應 <500μs，三模式（恒（héng）壓 / 恒流 / 恒功率），效率 ≥90%

• 1kHz–150kHz 寬頻，脈寬 3μs–495μs，阻抗比 1:9（行業領先）

• 電壓精度 ±0.5%，重複性 ≤±0.2%，兼容 4020 接口

• 精新 JX-MSB 係列（直接替代 4020）

• 英能 MS 係列

三、型號選型速查（chá）表（直接對照）