MSD係列直流磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的（de）電（diàn）流型開關（guān）電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火（huǒ）及重啟速度（dù），應用（yòng）在鋁靶鍍膜優勢更為明（míng）顯。
   B 具備恒流/恒功率（lǜ）模式可選。恒功率模式（shì）相對於傳統的（de）恒流模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性（xìng），自動識別偽打火現象，
充分（fèn）滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可（kě）大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬（nǐ）量接口控製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采（cǎi）用先進的PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生（shēng）產工藝嚴（yán）格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極（jí）佳的負載匹配能力，既保證了（le）靶麵清洗工（gōng）藝的穩定性，又提（tí）高了靶麵清洗速度（dù）；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高（gāo）；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展功能（néng），方便實現自動化控製。

主（zhǔ）要用途：

直流磁控濺射（shè）用於鍍製各種金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源的應用（yòng）可（kě）以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普（pǔ）遍（biàn）應用，所以電源的類型也隨之（zhī）而多（duō）樣（yàng）。真（zhēn）空鍍膜電源是眾多電（diàn）源類型中的一（yī）種，這種電源與普通的電源有一定的區別，單是電（diàn）源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍（dù）膜加工上有什（shí）麽要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣（qì）進入玻璃），大約有（yǒu）5%會被反（fǎn）射掉，在光學瞄準（zhǔn）鏡中有許多（duō）透鏡和折（shé）射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層（céng）氟化鎂的增（zēng）透膜，單層增透膜可使（shǐ）反射減少至1.5%，多層增透膜則（zé）可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準（zhǔn）鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層（céng）增透（tòu）膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多（duō）層（céng）增透膜的鏡片（piàn）則呈淡綠色（sè）或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為（wéi）電磁（cí）波的（de）光波（bō）在傳播的過程中，在不同介質的分界麵上，由於（yú）邊（biān）界條件的不同，改變了其能量的分布。對於（yú）單層薄膜來說（shuō），當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄（báo）膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透（tòu）過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用（yòng），對於一般折射率（lǜ）在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到（dào）100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一（yī）個波長。單層膜隻對某一特定（dìng）波長的電磁（cí）波增透，為使在更大範圍內和更多波長實現增透（tòu），人們利用鍍多層膜（mó）來實現。

人們對增透膜（mó）的利用有了很多的經驗，發現了不少可（kě）以作為增透膜（mó）的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透（tòu）膜的應用（yòng）涉及醫（yī）學、軍事、太空探索等（děng）各行各業，為人類科技（jì）進步作出了重大貢獻。