MSD係（xì）列直流磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電（diàn）流型開（kāi）關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應（yīng）用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流（liú）模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特（tè）性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數（shù）可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製（zhì），可選配RS485通訊接口。
  F 采（cǎi）用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的（de）PWM脈寬調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能（néng）全、性（xìng）能穩定可靠，生產工藝嚴格（gé）完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍（dù）膜工藝的重複性（xìng），
並且（qiě）具有抑製靶（bǎ）材弧（hú）光放電及（jí）抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝（yì）的穩定性，又提高（gāo）了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連（lián）續調（diào）節；
方便維護，可靠（kào）性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實（shí）現（xiàn）自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技快速發展的時（shí）代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為電（diàn）源的（de）普（pǔ）遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電源有一定（dìng）的區（qū）別（bié），單是（shì）電（diàn）源（yuán）的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上（shàng）有什麽要注（zhù）意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（shí）（如由空氣進入（rù）玻璃），大約有5%會被反射（shè）掉，在光學瞄準鏡中有（yǒu）許多透鏡和折（shé）射鏡，整個加起（qǐ）來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光（guāng）學（xué）透鏡通常都鍍有單層（céng）或多層氟化鎂（měi）的增透膜（mó），單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層（céng）增（zēng）透膜（mó）則可讓反射（shè）降低至0.25%，所以整個（gè）瞄（miáo）準鏡如（rú）果加以適當鍍膜，光（guāng）線透穿率可達95%。鍍了單層（céng）增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片（piàn）則呈淡綠（lǜ）色或暗紫色。

真空鍍膜機（jī）增透膜增（zēng）加（jiā）透射光強度的實質是作為電（diàn）磁波的光波在（zài）傳播的過程中，在不同介質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對於單（dān）層薄膜來說，當增（zēng）透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長（zhǎng）的奇數倍且薄膜的折射（shè）率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射（shè）光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於（yú）一般折射率在1.5左右（yòu）的光學玻（bō）璃，為使（shǐ）單層膜達到100%的增透效果，可使（shǐ）n1=1.23，或接近（jìn）1.23；還要使增透薄膜的厚度（dù）=（2k+1)倍（bèi）四分之一個（gè）波長。單層膜隻對某（mǒu）一特定波長的電磁波（bō）增透，為（wéi）使在更大範（fàn）圍內和更多波長實現增透，人（rén）們利用鍍多層膜來實（shí）現。

人（rén）們對增透膜的利用有了很（hěn）多的經驗，發現了不少可以作為增（zēng）透（tòu）膜的材料；同時也掌握了（le）不少先進的鍍膜技術，因此增透膜（mó）的應用涉及醫學、軍事（shì）、太空探索等各行各業，為人類科技進步作出了（le）重大貢獻（xiàn）。