北京HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特（tè）性，
有效抑製工件（jiàn）表麵打火，明顯提高鍍（dù）件的成（chéng）品率、表麵光（guāng）潔度和（hé）膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻（pín）率1k~2kHz，占空（kōng）比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈（mò）寬調（diào）製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性（xìng）能穩定可靠（kào），生產工藝嚴格完善。
該（gāi）係列產品采用先進的DSP控製係統，充分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑（yì）製靶材弧光放電及抗短路功能（néng），
具有極佳的負載（zǎi）匹配能力，既保證了靶麵清洗工（gōng）藝的穩定性，又提高了（le）靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方（fāng）便實現自動化控製。

主要用途：

高（gāo）壓窄脈衝電源適（shì）用（yòng）於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗（xǐ）、鍍膜前的離子（zǐ）轟擊和鍍膜時的離子加（jiā）速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範圍是越來越廣泛了（le），真空鍍膜技術是一（yī）種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程技術領域的（de）重要組成部分。隨著全球（qiú）製造業高速發展，真空鍍膜（mó）技術應用越來越廣泛。從半導體集成電（diàn）路、LED、顯（xiǎn）示器（qì）、觸摸（mō）屏、太陽能光伏（fú）、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍（dù）膜（mó）設備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜（mó）；數字式縱向與橫向（xiàng）均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展示和（hé）應用各種光學特性的光學膜；計（jì）算機顯示用（yòng）的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的（de）導電膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃（lí）鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻（zǔ）隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的（de）功能膜；工、模具表麵上應用的耐（nài）磨超硬（yìng）膜；納米材料研究方麵的各種（zhǒng）功能性薄膜等。對於（yú）國內真空鍍膜設（shè）備製造企業發（fā）展建議如（rú）下：

1、目前（qián）實（shí）體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程（chéng），真空鍍膜設備製造企業（yè）應著力進行產業結構優化升級（jí），重（chóng）質量、重服務明確（què）市場定位，大力（lì）研發擁有自主知識產權的新（xīn）產品新工藝，提高產品質（zhì）量和服務水平。

2、依托信息化發展趨（qū）勢，堅持“以信（xìn）息化帶動工業化，以工業（yè）化促進（jìn）信息化”，走（zǒu）出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮（huī）的新型工業化路子。

3、依（yī）托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作（zuò），使得（dé）新（xīn）品能迅速推向市場。

真空鍍膜（mó）技術及（jí）設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業（yè）將以信息化（huà）融合為重心，依靠技（jì）術（shù）進（jìn）步，更加注重技術能力積（jī）累（lèi），製造偏向服務型，向世界真（zhēn）空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。