北京HVP高壓窄脈衝電（diàn）源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電（diàn）壓功能，具有（yǒu）理想的電壓（yā）陡降（jiàng）特性，
有效抑（yì）製工件表麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵（miàn）光潔度和膜層結合力（lì）。
   B 電壓（yā）脈衝（chōng）輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占（zhàn）空比（bǐ）1%~5%(最 大（dà）脈衝寬度25uS)。
   D 可選（xuǎn）擇手動控製/模擬量接口控製，可（kě）選配（pèi）RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功能全、性（xìng）能穩定可靠，生（shēng）產工藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的（de）重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗（kàng）短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力（lì），既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便（biàn）實現自動化控（kòng）製。

主要用（yòng）途：

高（gāo）壓窄脈衝電（diàn）源適用於特殊鍍膜工藝時（shí）被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍（dù）膜時的離子加速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的（de）材料合成（chéng）與加工的新技術，是表麵（miàn）工（gōng）程技（jì）術領域的重要組成部分。隨著全球製造業（yè）高（gāo）速發展，真空鍍膜技（jì）術應用越來越廣泛（fàn）。從半導體集成電路（lù）、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能（néng）光伏、化工、製藥等行業（yè）的（de）發展來看，對真空鍍膜（mó）設備、技術材料需求（qiú）都在不（bú）斷增加，包括製造大規模集成電路的電（diàn）學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種光學特性的光學膜（mó）；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電（diàn）膜（mó）和增透膜（mó）；建築、汽車（chē）行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾（shì）材料上具體各種功（gōng）能（néng）裝飾效（xiào）果（guǒ）的功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各種（zhǒng）功能性薄膜等。對（duì）於國內真空鍍膜設備製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複（fù）蘇充滿（mǎn）不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備（bèi）製造企業應著力進行產業結構優化升級（jí），重質量、重（chóng）服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權（quán）的新產品新（xīn）工藝，提高產品質量和服（fú）務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶（dài）動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含（hán）量高、經濟效益好、資源（yuán）消耗低（dī）、環境汙染少、人力（lì）資源（yuán）優勢得到充分發揮的新型工業化路子（zǐ）。

3、依托政府支（zhī）持，大（dà）力加強與擁有行業先進技術和工藝水平（píng）的科研院所、大型（xíng）企業、高校合作，使得新品能迅速（sù）推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領（lǐng）域和發展前景。未來真空鍍膜設備（bèi）行業等製造業將以信息化（huà）融合（hé）為（wéi）重心，依靠（kào）技術進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行業（yè）等製（zhì）造業價值（zhí）鏈高端挺進。