北京MSDP單極（jí）脈衝磁控（kòng）濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累（lèi）現象，減小（xiǎo）濺射表麵的（de）打（dǎ）火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量（liàng）接口控製，可選配（pèi）RS485通（tōng）訊接（jiē）口。
采用先（xiān）進的PWM脈寬調製技術，使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩定性，又提高了（le）靶麵清（qīng）洗速度；
主要參數（shù）均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控（kòng）製（zhì）。

主要用途：

單極脈衝（chōng）磁控濺射適用於金屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜（mó）。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高（gāo），達（dá）到分子級（jí）。在清洗槽中分別放置各（gè）種清洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當（dāng）鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃（lā）圾再（zài）黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙（cāng）內，在此（cǐ）過程中要特（tè）別注意避免（miǎn）空氣（qì）中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的（de）清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙（cāng）內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後即進行（háng）減反（fǎn）射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現（xiàn）在會應用那麽多呢，有哪些明顯的效果？

概念的（de）區別：

1、真空鍍（dù）膜是指在高真空（kōng）的條（tiáo）件下加熱金屬或非金屬材料（liào），使其蒸發並凝結於鍍件（金（jīn）屬、半導體或（huò）絕（jué）緣體）表（biǎo）麵而形成薄膜的一種方（fāng）法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層（céng）)金屬(或介質（zhì）)薄膜的（de）工（gōng）藝過程。在光學（xué）零件表麵鍍膜的目的是為了達到減（jiǎn）少或增加光的反射（shè）、分束、分色、濾光、偏振等要（yào）求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理（lǐ）鍍膜的一種)和化學鍍膜。