北京MSDP單極脈衝磁控濺射（shè）電源

主要型號（hào）：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累現象，減小（xiǎo）濺射表麵的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有（yǒu）平均電源穩定功能（néng），具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺（jiàn）射工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空（kōng）比（bǐ）20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模（mó）擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技（jì）術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩（wěn）定可靠，生產工（gōng）藝嚴格完善。
該（gāi）係列產品采用先進的DSP控製係（xì）統（tǒng），充分保證鍍膜工藝的重複性（xìng），
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵（miàn）清洗工藝的穩定（dìng）性（xìng），又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現（xiàn）自動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控（kòng）濺射適（shì）用（yòng）於金屬、合金及石墨等（děng）靶材鍍製金屬（shǔ）膜、碳膜和部分氧化物、氮化（huà）物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並采用（yòng）超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完（wán）後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意（yì）避（bì）免空（kōng）氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵（miàn）。最後的清洗是在真空艙（cāng）內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵（chén）和垃圾（jī）再（zài）黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的（de），放置在真空艙內的離（lí）子槍將（jiāng）轟擊鏡片（piàn）的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序（xù）後（hòu）即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源（yuán）為什（shí）麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發（fā）並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍（dù）鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零（líng）件表麵上（shàng）鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程（chéng）。在光學零件（jiàn）表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反（fǎn）射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍（dù）膜法有真空鍍膜(物（wù）理鍍（dù）膜（mó）的一種)和化學鍍膜。