江蘇HVP高（gāo）壓窄（zhǎi）脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具（jù）有行動（dòng）穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達（dá）3500V。
   C 頻（pín）率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇（zé）手動控製/模擬（nǐ）量接口控製，可選配RS485通訊接（jiē）口。
采（cǎi）用先（xiān）進的PWM脈（mò）寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體（tǐ）積小、重量（liàng）輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分（fèn）保證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材弧光放電及抗短路功（gōng）能，
具有（yǒu）極佳的負載匹配能力，既保（bǎo）證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參（cān）數均可大範圍連續調節；
方便維護，可（kě）靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途（tú）：

高壓（yā）窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍（dù）膜（mó）前的離子轟擊和鍍膜時的（de）離子加速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運（yùn）用範圍（wéi）是（shì）越來越廣泛了，真空鍍（dù）膜技（jì）術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工（gōng）程（chéng）技術領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越（yuè）廣（guǎng）泛。從半導體集成電（diàn）路、LED、顯示器、觸（chù）摸（mō）屏、太（tài）陽能光伏、化工、製藥（yào）等行業的發展來看，對真（zhēn）空鍍膜設備、技術材料需求都在不（bú）斷增加，包括製造大規模（mó）集成電路的（de）電學膜；數字式縱向與橫向均可（kě）磁（cí）化（huà）的（de）數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種光學特（tè）性的光學膜；計算機（jī）顯示用的感（gǎn）光（guāng）膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃（lí）鍍膜和裝飾膜；包（bāo）裝領域用防護膜、阻隔（gé）膜；裝飾材料上具體各種功能裝（zhuāng）飾效（xiào）果的（de）功能膜；工、模具（jù）表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究（jiū）方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空（kōng）鍍膜設備製（zhì）造企業發展建（jiàn）議如下：

1、目前實體經濟走（zǒu）勢（shì）整體疲弱，複蘇充（chōng）滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜（mó）設備製造企業應著力進行產業結構優化升級（jí），重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新（xīn）產品新工（gōng）藝，提高產品質量和服務水（shuǐ）平（píng）。

2、依托信息化發展趨（qū）勢，堅持“以信（xìn）息化（huà）帶動工（gōng）業化，以工（gōng）業（yè）化促進（jìn）信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人（rén）力資源優勢得到充（chōng）分（fèn）發揮的新型工（gōng）業化（huà）路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝（yì）水平的科研院所、大型企業、高校（xiào）合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未（wèi）來（lái）真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合（hé）為重心，依靠技術進步，更加注重（chóng）技術能力積累，製造偏向服務型（xíng），向（xiàng）世界真空鍍膜（mó）設備（bèi）行（háng）業等製造業價值鏈高端挺進。