上海HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主要特（tè）點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效（xiào）抑製工件表麵打（dǎ）火，明顯提（tí）高鍍（dù）件的（de）成品率、表麵光潔度和（hé）膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可（kě）達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手（shǒu）動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能（néng）全、性（xìng）能穩定（dìng）可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采（cǎi）用先進的（de）DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的（de）重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材（cái）弧光放電及抗（kàng）短路功能（néng），
具有（yǒu）極佳的負載匹配能力（lì），既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵（miàn）清洗速（sù）度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源（yuán）適用（yòng）於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟（hōng）擊和鍍膜時的離（lí）子加速等。

社會不（bú）斷發展（zhǎn），技術也是不（bú）斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範圍是（shì）越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新（xīn）穎的材料合成與加工的新（xīn）技術，是表麵（miàn）工程技術領域的重要組成部分。隨著全（quán）球製（zhì）造業高速（sù）發展（zhǎn），真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器（qì）、觸摸（mō）屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍（dù）膜設備（bèi）、技術材（cái）料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展（zhǎn）示和應用各種光學特性（xìng）的光學膜；計（jì）算機顯示用的感光（guāng）膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建（jiàn）築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾（shì）膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體（tǐ）各種功能裝飾效果的功能膜（mó）；工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材（cái）料研究方（fāng）麵的各種功能性（xìng）薄膜等。對於國內真空鍍膜設備（bèi）製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複（fù）蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過（guò）程，真空鍍膜設備製造企業應著（zhe）力進行產業（yè）結構優化升（shēng）級，重質量、重服（fú）務明確市場定（dìng）位，大（dà）力研發擁有自主（zhǔ）知識產權的新產品新工藝，提（tí）高（gāo）產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶（dài）動工業化，以工業化（huà）促進信息化”，走出一（yī）條科技含（hán）量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充（chōng）分發揮的新型工業化路（lù）子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的（de）科研院（yuàn）所、大型企業、高校合作，使得新品能（néng）迅速推（tuī）向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十（shí）分廣闊的應用領域和發（fā）展前景。未來真空鍍膜設備行（háng）業等製造業（yè）將（jiāng）以信息化融合為重心，依靠技術（shù）進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備（bèi）行業等製造業價值鏈高端挺進。