武（wǔ）漢HVP高（gāo）壓窄脈（mò）衝（chōng）電源

主要型號：

主要特（tè）點：
   A具有行動穩定（dìng）電壓功能，具有（yǒu）理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表（biǎo）麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜（mó）層結合力。
   B 電壓脈衝輸出（chū）峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可（kě）選擇手動控（kòng）製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用（yòng）先進（jìn）的PWM脈寬調製技（jì）術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體（tǐ）積小（xiǎo）、重量輕、功能全（quán）、性能穩定可靠，生產工藝（yì）嚴（yán）格完（wán）善。
該係列產品采用先進的DSP控製（zhì）係（xì）統，充分保證（zhèng）鍍膜工藝（yì）的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功（gōng）能，
具（jù）有極佳的（de）負載匹配（pèi）能力（lì），既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高（gāo）了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電（diàn）源適用於特（tè）殊鍍膜工藝（yì）時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟（hōng）擊和鍍膜時的離子加速等。

社會（huì）不斷（duàn）發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運（yùn）用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎（yǐng）的（de）材料合成與加（jiā）工的新（xīn）技術，是表麵工程技術領域（yù）的重要組成部分。隨著全球製造業高速發（fā）展，真空鍍膜技術（shù）應用越來越廣泛（fàn）。從半導（dǎo）體（tǐ）集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備（bèi）、技（jì）術材料需（xū）求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱（zòng）向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平（píng）麵顯示器上的導電（diàn）膜和增透膜；建（jiàn）築、汽車行（háng）業上應（yīng）用的玻璃鍍（dù）膜（mó）和裝飾（shì）膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具（jù）體各種功能（néng）裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超（chāo）硬膜（mó）；納米材料研（yán）究方麵的各種功能性薄膜等。對於（yú）國內真空鍍膜設備製造企業（yè）發（fā）展（zhǎn）建議如（rú）下：

1、目前實體經濟走（zǒu）勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空（kōng）鍍膜設備製造企業應著（zhe）力進行產業結（jié）構優化升級，重質量（liàng）、重服（fú）務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質（zhì）量和服務水平。

2、依托信息（xī）化發展趨勢，堅持“以信（xìn）息化帶動工業化，以（yǐ）工業化促進（jìn）信息化”，走（zǒu）出一條科（kē）技（jì）含量高、經濟（jì）效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型（xíng）工業化（huà）路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行（háng）業先進技（jì）術和工藝水（shuǐ）平的科研院所、大型企業、高校合作，使得新品能迅速推向（xiàng）市場。

真空（kōng）鍍膜（mó）技術及設（shè）備擁有十分（fèn）廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜（mó）設備行業等製造業將以信息化融合為重心，依靠技術進步，更加（jiā）注重技術能力積（jī）累，製造偏向服務型，向世界真空鍍（dù）膜設備行業等製造業價值鏈（liàn）高端挺進。