武（wǔ）漢HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主要特點（diǎn）：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表（biǎo）麵打火，明顯提高鍍件（jiàn）的成品率、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開（kāi）關器件，
體積小、重（chóng）量輕、功能全、性（xìng）能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分（fèn）保（bǎo）證鍍膜工藝的（de）重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能（néng），
具有極（jí）佳的負載匹配能力（lì），既保（bǎo）證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參（cān）數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和（hé）RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄（zhǎi）脈衝（chōng）電源（yuán）適用（yòng）於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵（miàn）的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊（jī）和鍍膜時的離子加速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範圍是（shì）越來越廣（guǎng）泛了，真空鍍膜技術是（shì）一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程技術領域的重要組成部分（fèn）。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜（mó）技（jì）術應用越來越廣泛。從半導體（tǐ）集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需（xū）求（qiú）都在不斷增加，包括製造（zào）大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展示和應（yīng）用各種光學特性的光（guāng）學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平（píng）麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域（yù）用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各（gè）種功能裝飾效果的功能（néng）膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬（yìng）膜；納米材料研究方麵的各種功能性（xìng）薄膜等。對於國內真空鍍膜設備製造企業發（fā）展建（jiàn）議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇（sū）充滿不確定性，經濟處（chù）於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進（jìn）行產業（yè）結構優（yōu）化升（shēng）級，重（chóng）質量、重（chóng）服務明確市場定（dìng）位（wèi），大力研發擁有自主知識產權的新產品新（xīn）工藝，提高產品質量（liàng）和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化（huà）帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條（tiáo）科（kē）技含量高、經濟效益好（hǎo）、資源消耗低、環境汙染少、人力資源（yuán）優勢（shì）得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行（háng）業先進技術和工藝水平的科研（yán）院所、大型企業、高（gāo）校合作，使得（dé）新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展（zhǎn）前景。未（wèi）來真空（kōng）鍍膜（mó）設備行業（yè）等（děng）製造業將以信息化融合為重心，依靠技術進步，更加注重（chóng）技（jì）術能力積累，製造偏（piān）向服務型（xíng），向世界（jiè）真空鍍膜設備（bèi）行業等製造業價值鏈高端挺進。