188-0259-9203（微信（xìn）同（tóng）號（hào））
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主要型號（hào）：
型號 | 功率(kW) | 工作峰（fēng）值電壓（yā）（V） | 最大工作電流（A） | 最大峰值電（A） | 主機外形（xíng）尺寸 | 冷卻方（fāng）式 |
HVP-2500V | 2.5 | 2.5kV | 2.5A | 50 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷（lěng） |
HVP-3500V | 2.5 | 3.5kV | 1.5A | 30 |
主要特點：
A具有行動穩（wěn）定電壓功能，具有理想（xiǎng）的電（diàn）壓陡降（jiàng）特性，
有效抑製工（gōng）件表麵打火，明顯提（tí）高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜層結合力。
B 電壓脈衝輸出峰值可（kě）達3500V。
C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝（chōng）寬度25uS)。
D 可選擇（zé）手動（dòng）控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
采用先進的PWM脈寬（kuān）調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重（chóng）量輕、功能全（quán）、性能穩定可靠，生（shēng）產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分（fèn）保證鍍膜工藝（yì）的重複性（xìng），
並且具有抑製靶（bǎ）材弧（hú）光放（fàng）電及抗短路功能（néng），
具有極（jí）佳的負載匹配能力，既保證（zhèng）了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶（bǎ）麵清洗速度（dù）；
主要參數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功（gōng）能，方便實現自動化控製。
主要用途：
高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和（hé）鍍膜時的離子加速等。
社會不斷發（fā）展，技術也是不斷得（dé）在創新。真空鍍膜電（diàn）源的運用範圍是越來越廣泛了（le），真空鍍膜技術（shù）是一種新穎的材料合（hé）成與加工的新技術，是（shì）表麵工程技術領（lǐng）域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從（cóng）半導體集成電路（lù）、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發（fā）展來看，對真空鍍膜設（shè）備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種（zhǒng）光學特（tè）性的光學膜（mó）；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵（miàn）顯示器上的導電（diàn）膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體（tǐ）各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上（shàng）應用的耐磨超硬膜；納米材料（liào）研究方麵的（de）各種功能性薄膜（mó）等。對於國內真空鍍膜設備製造企業發展建議（yì）如下：
1、目前實體經濟走勢（shì）整（zhěng）體疲弱（ruò），複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進行產業結構優化升級，重質量（liàng）、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。
2、依托信息化發展（zhǎn）趨勢（shì），堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信（xìn）息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙（wū）染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路（lù）子。
3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院（yuàn）所、大型企業、高校合作，使得新品能迅速推向市場。
真（zhēn）空鍍（dù）膜（mó）技術及（jí）設備擁有十分廣闊的應用領（lǐng）域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業（yè）等製造業將以信息化融（róng）合為重心，依靠技術進（jìn）步，更加注重技術能（néng）力（lì）積累，製（zhì）造偏向服務型，向世界真空鍍膜（mó）設備行業等製造業價值鏈高端挺進。
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