武漢MSDP單極脈（mò）衝磁控（kòng）濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺（jiàn）射表麵的打（dǎ）火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能，具（jù）有理想的電（diàn）壓陡降特性，
充分（fèn）滿（mǎn）足磁控濺射工藝過程的連（lián）續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓（yā）200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇（zé）手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開（kāi）關器（qì）件，
體積（jī）小、重量輕、功（gōng）能全、性能穩定（dìng）可靠，生產工藝嚴（yán）格完善。
該係列產品（pǐn）采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性（xìng），
並且具有抑製靶材弧光（guāng）放電及抗（kàng）短路功能，
具有極佳的負載匹配（pèi）能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數（shù）均可（kě）大範圍連續調節；
方便維（wéi）護，可靠性高；
PLC接（jiē）口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要（yào）用途：

單（dān）極脈衝磁控濺（jiàn）射適用於金屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接（jiē）受鍍膜前必須（xū）進行（háng）預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗（xǐ）液，並采用超聲波加強清洗（xǐ）效（xiào）果，當鏡片清洗完（wán）後（hòu），放進真空（kōng）艙內（nèi），在此過程中要特別注意避（bì）免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內，在此過（guò）程中要特（tè）別注意避免空（kōng）氣中的灰塵和垃圾再黏附在（zài）鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將（jiāng）轟擊鏡片的（de）表麵（例如用（yòng）氬（yà）離子），完成此道清洗工序後即進（jìn）行減反射膜的鍍膜。

真空鍍（dù）膜電源（yuán）為什麽在（zài）現在會（huì）應用那（nà）麽（me）多呢，有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在（zài）高真空的條件下加（jiā）熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄（báo）膜的一種方（fāng）法。例如，真空鍍鋁、真（zhēn）空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上（shàng）一層(或多層)金屬(或介（jiè）質)薄膜的工藝過程。在光學零（líng）件表麵鍍膜的目的是為了達到（dào）減少或增加光的（de）反（fǎn）射、分束、分色、濾光、偏振等要（yào）求。常用（yòng）的鍍膜（mó）法有真空鍍膜(物理鍍膜（mó）的一種)和化學鍍膜。