浙江HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主（zhǔ）要特點：
   A具有行動穩定電（diàn）壓功能，具有理想的電壓陡（dǒu）降特性，
有效抑製工件表麵打火，明（míng）顯提高鍍件的成品率、表麵（miàn）光（guāng）潔度和（hé）膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值（zhí）可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占（zhàn）空（kōng）比（bǐ）1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進（jìn）口IGBT或（huò）MOSFET作為功率開關器（qì）件，
體積（jī）小（xiǎo）、重量輕、功能全、性能（néng）穩定可靠，生產工藝嚴（yán）格完善。
該係列產品采（cǎi）用先進（jìn）的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝（yì）的重複性（xìng），
並且具有（yǒu）抑製（zhì）靶材弧（hú）光放電（diàn）及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範（fàn）圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要用途：

高壓窄（zhǎi）脈衝電源適用於（yú）特（tè）殊鍍膜工（gōng）藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍（dù）膜前的離子轟擊和鍍膜時的離（lí）子加速等。

社會不斷（duàn）發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍（dù）膜電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程技（jì）術領域（yù）的重要組（zǔ）成部分。隨著（zhe）全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越（yuè）廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏（fú）、化工、製藥等行（háng）業的發展來看（kàn），對真空鍍膜設備、技（jì）術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式（shì）縱向與橫向均可磁化的（de）數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的（de）感光（guāng）膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用（yòng）防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具（jù）體各種功（gōng）能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超（chāo）硬（yìng）膜；納米材料研究方麵的各種功能性（xìng）薄膜等。對於國內真空鍍膜設（shè）備製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲（pí）弱，複蘇充滿（mǎn）不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業（yè）應著力進行產業（yè）結構優化升級，重質量、重服務明確市場定位（wèi），大力研發擁有自主知識產權的新產品新工（gōng）藝，提高產品質量和服務水平。

2、依（yī）托信息化發展趨勢，堅（jiān）持“以信息（xī）化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技（jì）含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支（zhī）持，大力加強與擁有行業先（xiān）進技（jì）術和工藝水平（píng）的科研院所、大型企業、高（gāo）校（xiào）合作，使得新品能迅速（sù）推向市場。

真空鍍膜技（jì）術及（jí）設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍（dù）膜設備行業等製造（zào）業將以信息化融合為重心，依靠技術進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備（bèi）行業等製造（zào）業價值鏈高（gāo）端（duān）挺進。