浙江HVP高壓窄脈衝電源

主要型號（hào）：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表麵打火，明（míng）顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和（hé）膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手（shǒu）動控製/模（mó）擬量接口（kǒu）控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功能（néng）全、性（xìng）能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采（cǎi）用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的（de）重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳（jiā）的負載匹配能力，既保證了靶（bǎ）麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要（yào）參數均可大（dà）範圍連續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實（shí）現自動化控（kòng）製。

主（zhǔ）要用途：

高壓窄脈衝電源（yuán）適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等（děng）。

社會（huì）不斷發展，技術也是不斷得在（zài）創新（xīn）。真空鍍膜電源的運用範圍是越（yuè）來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術（shù），是表麵工（gōng）程技術領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍（dù）膜技術應用越來越廣泛。從半導體（tǐ）集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工（gōng）、製藥（yào）等行（háng）業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加（jiā），包括（kuò）製造大規模集成電路的電（diàn）學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄（lù）儲存膜（mó）；充分展示和應用各（gè）種光學特性的光學膜；計算機（jī）顯（xiǎn）示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜（mó）和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾（shì）膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝（zhuāng）飾材料上具體各種功能裝飾效（xiào）果的功能膜；工（gōng）、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納（nà）米材料研究方（fāng）麵的各種功能性薄膜等。對於國（guó）內真空鍍膜設備製造企業發展建議如（rú）下：

1、目前實體經濟（jì）走（zǒu）勢整體疲弱，複（fù）蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備（bèi）製造企業應著（zhe）力進行產業結構優化升級，重質量、重（chóng）服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權（quán）的新產品新工藝，提（tí）高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技（jì）含（hán）量高、經濟效益好、資（zī）源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與（yǔ）擁有（yǒu）行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作（zuò），使得新品能（néng）迅速推向市場（chǎng）。

真空鍍膜技術及設備（bèi）擁有十分廣闊的應（yīng）用領（lǐng）域和發展前景。未來（lái）真空鍍膜設備行業等製造業（yè）將以信息化融合為重心，依靠技術進步，更加注重技（jì）術能力積累（lèi），製造偏向服務型，向世界真空（kōng）鍍膜設備行業等製造業價（jià）值鏈高端挺進。