浙（zhè）江MSDP單極脈（mò）衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶（bǎ）麵（miàn）電荷（hé）積累（lèi）現象，減小濺射表麵的打火（huǒ）次（cì）數，提高膜層質量（liàng）。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降（jiàng）特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻（pín）率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模（mó）擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
采（cǎi）用先進的PWM脈寬調製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充（chōng）分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具（jù）有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有（yǒu）極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性（xìng），又提高了（le）靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可靠性高；
PLC接口（kǒu）和（hé）RS485接口擴展功能（néng），方便（biàn）實現自動化控製。

主要（yào）用途：

單極（jí）脈衝磁控濺射適用（yòng）於金屬、合金及石墨等靶材（cái）鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物（wù）、氮化物（wù）及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須（xū）進行預清洗（xǐ），這種清洗要求（qiú）很高，達到分子級。在清洗槽中（zhōng）分別放置各種清洗液，並（bìng）采用超聲波加強清（qīng）洗效果，當鏡（jìng）片（piàn）清洗（xǐ）完（wán）後，放進真空艙（cāng）內，在（zài）此過程中要特別注意避（bì）免空氣（qì）中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後（hòu）的清洗是在真空艙（cāng）內，在此過程中要特別注（zhù）意避免空氣中（zhōng）的灰塵（chén）和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（miàn）（例如用（yòng）氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜（mó）電源為什麽在（zài）現（xiàn）在會應用那麽多呢，有哪（nǎ）些明顯的效果？

概念的（de）區別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金（jīn）屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空（kōng）鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指（zhǐ）在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的（de）工藝過程。在光學零件表麵（miàn）鍍膜的目的是為了達到減少或（huò）增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜（mó）法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜（mó）。