直流磁控濺射和中頻（pín）磁控濺（jiàn）射是（shì）常見的濺射鍍膜工藝，但這兩（liǎng）種常見（jiàn）的濺射工藝（yì）有什麽區（qū）別1.直（zhí）流磁控濺射濺射（shè）與氣壓的關係——要在一定範圍內提高電離率(在盡可能低的壓力下保持較高的（de）電離率)，要提高均勻性，就（jiù）要在保證膜的（de）純度的同（tóng）時增加（jiā）壓力，而要提高膜

傳統水電鍍因其廢水處理成本高、能耗高、水資源浪費（fèi）嚴重、環境（jìng）汙染嚴重等問題，一（yī）直受到國（guó）家和地方（fāng）各級政（zhèng）府的製約。真空鍍膜設備可以替代傳統（tǒng）水（shuǐ）電鍍的表麵處理方式，實（shí）現傳統水電鍍的技術升級改造。讓我們（men）來看看它相對於傳統水電（diàn）鍍的優勢。1.無環境汙染由

1.1真空鍍膜:在真空條件下在基材上製備薄膜層的方法。1.2底（dǐ）物:膜層受體。1.3測試基材:在塗層過程開始、過程中或之（zhī）後用於測（cè）量和/或測試（shì）的基材。1.4塗層材料（liào）:用於製作塗（tú）層的原材料。1.5蒸（zhēng）發材料:真空（kōng）蒸發中用於蒸發的塗層材（cái）料。1.6濺射

真空鍍膜應用廣泛，如真空鍍鋁、真空鍍膜在塑料等基材（cái）上，再經過不（bú）同顏色的染色處理，可用於家（jiā）具、工藝品、燈飾（shì）、鍾表、玩具、汽車燈具、鏡子及（jí）軟包裝（zhuāng）材料等產品的製造，裝飾（shì）效果非常（cháng）好。真空鍍膜技術的特點（diǎn）：1、塗層材料種類（lèi）繁多：可作為真空鍍膜蒸發材料有