真空鍍膜有蒸發鍍(dù)膜(mó)、濺(jiàn)射鍍膜和離子鍍膜三種形式:當濺射(shè)鍍膜用高能粒子轟擊固體表麵時,可以獲得固體表麵的粒子。能量從表麵逸出並沉積在基板上;離子鍍蒸發物質的分子通過電子撞擊被電離,並以(yǐ)離子的形(xíng)式沉(chén)積在固體表麵。
所有三(sān)種形式的真空鍍膜技術都(dōu)需要快速冷卻裝置來輔(fǔ)助真空鍍膜過程。由於工件在鍍膜過程中(zhōng)處於封閉的真空環境(jìng)中,真空(kōng)設備失去了很多產品技術和(hé)性能。現有的真空鍍膜設備也有冷卻裝置,但其冷卻效果不是很理想。

不能滿(mǎn)足人們的需要,為彌補現有技術的不足,真(zhēn)空鍍膜電源廠家提供一種真空鍍(dù)膜設備手套箱蒸發一體機。該係統集成了真空(kōng)鍍膜(mó)係統和手套箱係統,可在高(gāo)真空蒸發室中完成薄膜蒸(zhēng)發(fā)。樣品在手套(tào)箱中的高純度惰性氣體氣氛下蒸發後儲存、製備和測(cè)試。為保證塗層產品工藝和(hé)性能質量要求而設置的快速冷卻係統(tǒng),可實現快速冷卻自動(dòng)控製的目的。
蒸發鍍膜與手套箱相結合,實現了蒸發、封裝、測試(shì)等過(guò)程(chéng)的全封(fēng)閉生產(chǎn),使(shǐ)整個薄膜生長和器件製備(bèi)過程高度集成在一(yī)個環境(jìng)氣氛可控的完整係(xì)統中(zhōng),無需有機大-區域電路準備。大氣環境中不穩定因素的(de)影響,保證了高性(xìng)能、大麵積有機光電器件和電路的製備。
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