北京MSD係列直流磁（cí）控濺射電源

主（zhǔ）要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流（liú）型開關電源技（jì）術，減小輸出儲能元件，
同時提高（gāo）了抑（yì）製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明（míng）顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模（mó）式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工（gōng）藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動識別（bié）偽打火現（xiàn）象，
充分滿足磁控濺射（shè）工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍（wéi）調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進（jìn）口大功（gōng）率IGBT&MOS模（mó）塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或（huò）MOSFET作（zuò）為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能（néng）全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品（pǐn）采用先進（jìn）的DSP控製係統（tǒng），充（chōng）分保證鍍膜工藝的（de）重複性，
並且具有抑製靶材（cái）弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了（le）靶麵清（qīng）洗工（gōng）藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範（fàn）圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技快速發（fā）展的時代中，電源的應用可（kě）以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍（biàn）應用，所以電源的類（lèi）型也隨之而多（duō）樣（yàng）。真空鍍膜電源是（shì）眾多電源類型中的一種，這種（zhǒng）電源（yuán）與普通的電源有一定的區（qū）別，單是電源的外觀就有明顯的不同（tóng）。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工（gōng）上有什麽要注意的（de）嗎？當光線進入不同傳（chuán）遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有（yǒu）5%會被反（fǎn）射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個（gè）加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或（huò）多層（céng）氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射（shè）降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍（dù）膜，光線透穿率（lǜ）可達95%。鍍了單層（céng）增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多（duō）層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫（zǐ）色。

真空鍍（dù）膜機增（zēng）透膜增加透射光（guāng）強度（dù）的實質是（shì）作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介（jiè）質的分界麵（miàn）上，由於邊界條件的不（bú）同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說（shuō），當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長（zhǎng）的奇數（shù）倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折（shé）射率），才可以使入射光全（quán）部透過（guò）介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於（yú）一般折射（shè）率在1.5左右的光學玻璃，為（wéi）使單層膜達到100%的增透效果，可（kě）使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一（yī）特定（dìng）波長的電磁波增（zēng）透，為使在更大範（fàn）圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們（men）對（duì）增透膜的利用有了很多的（de）經驗，發（fā）現了不少（shǎo）可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用（yòng）涉及醫學、軍事、太（tài）空探索等各（gè）行各業，為人類（lèi）科技（jì）進步作出了重大貢（gòng）獻。