上海（hǎi）MSDP單極（jí）脈衝磁控濺射電源

主（zhǔ）要型號：

主要特點（diǎn）：
   A 明顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺射（shè）表麵（miàn）的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想的電（diàn）壓陡降特性，
充（chōng）分（fèn）滿足磁控濺射工藝過程的（de）連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可（kě）選擇手動控製/模擬（nǐ）量接口（kǒu）控製（zhì），可選（xuǎn）配RS485通訊接口。
采用（yòng）先進的PWM脈寬調製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體（tǐ）積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生（shēng）產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控（kòng）製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功（gōng）能，
具有極佳的負載匹（pǐ）配能力（lì），既保證了靶麵（miàn）清洗工藝（yì）的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方（fāng）便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要用途：

單極脈衝磁控（kòng）濺射適用於金屬、合金及石墨等靶材鍍製（zhì）金（jīn）屬膜、碳膜（mó）和部分氧化物、氮化物及碳化物膜（mó）。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高（gāo），達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並（bìng）采用超聲波（bō）加強清洗（xǐ）效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程（chéng）中要特別注意（yì）避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在（zài）鏡片表麵。最後（hòu）的清洗是（shì）在真空艙內（nèi），在（zài）此過程中要特別注（zhù）意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在（zài）真空（kōng）艙內鍍前進行的，放置（zhì）在真空（kōng）艙內（nèi）的離子槍將轟擊鏡片的表（biǎo）麵（例如用氬離（lí）子），完成（chéng）此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現（xiàn）在會應用那（nà）麽多（duō）呢，有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或（huò）非金屬材料（liào），使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導（dǎo）體（tǐ）或絕緣體）表麵而形成薄（báo）膜的一種方法。例如（rú），真空鍍鋁、真空鍍鉻（gè）等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵（miàn）上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零（líng）件表麵鍍膜的（de）目的是為（wéi）了達到減（jiǎn）少或增加（jiā）光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用（yòng）的鍍膜法有真（zhēn）空（kōng）鍍膜(物理鍍膜的一種)和化（huà）學（xué）鍍膜（mó）。