北京MSD係列直流磁控濺射電源

主要（yào）型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及（jí）重（chóng）啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相（xiàng）對於傳統的（de）恒（héng）流（liú）模式，
更能保證（zhèng）鍍膜工藝的重複（fù）性。
  C 具有理想的電壓陡降（jiàng）特（tè）性，自動識別偽打火（huǒ）現象，
充分滿足磁控濺射工（gōng）藝過程（chéng）的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量（liàng）接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體（tǐ）積小、重量輕、功能全、性能穩（wěn）定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係（xì）統，充（chōng）分保證鍍膜工藝的重複（fù）性，
並且具有抑製靶材弧光放電及（jí）抗短路功能，
具（jù）有（yǒu）極（jí）佳的負載匹配（pèi）能力，既保證了靶麵（miàn）清洗工藝的穩定（dìng）性，又提高了靶麵清洗速度；
主（zhǔ）要參數均可大範圍連續調節；
方便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用（yòng）途：

直流磁控濺射用於鍍製各（gè）種金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源（yuán）的應用可以說是（shì）隨處可見的，或（huò）許正是因（yīn）為（wéi）電源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍（dù）膜電源是眾多電源類型中的一種，這（zhè）種電源與普通的（de）電源有一定的區別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜（mó）機光學鍍（dù）膜加工上有什（shí）麽要注意的嗎？當光（guāng）線進入不同傳遞物質時（如（rú）由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在（zài）光學瞄（miáo）準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起（qǐ）來可以讓入射（shè）光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減（jiǎn）少至1.5%，多層增透膜則（zé）可讓反射降（jiàng）低至（zhì）0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍（dù）膜，光線透穿率可達95%。鍍了單（dān）層增透膜的鏡片通常（cháng）是藍紫色或是紅色（sè），鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透（tòu）射（shè）光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程（chéng）中，在不同介質的分（fèn）界麵上（shàng），由於（yú）邊界條件的不（bú）同，改（gǎi）變了其能量的分布。對於（yú）單層薄膜來說（shuō），當增透膜兩邊介質不同時（shí），薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折（shé）射（shè）率n=（n1*n2)^(1/2)時（分（fèn）別是介質1、2的折射率），才（cái）可以使（shǐ）入射光全部透過（guò）介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果（guǒ），可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增（zēng）透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特定（dìng）波長的（de）電（diàn）磁波增透，為（wéi）使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的利用有了很多的（de）經驗，發現了（le）不少可以作為（wéi）增透膜的材料；同時（shí）也掌（zhǎng）握了不少先進的鍍膜技術，因此增（zēng）透膜的應用（yòng）涉及醫學、軍事、太空探索等各行（háng）各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。