江蘇MSD係列直流磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了（le）抑製打火及重啟速（sù）度，應用在鋁靶鍍膜優（yōu）勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒（héng）功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動識別（bié）偽打火現象，
充分（fèn）滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製（zhì），可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率（lǜ）IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調（diào）製（zhì）技術，使（shǐ）用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體（tǐ）積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采（cǎi）用先進的（de）DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工（gōng）藝的重複性（xìng），
並且具有抑製（zhì）靶材弧光放電及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力，既保（bǎo）證了（le）靶麵清洗工藝的穩定性，又提（tí）高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射（shè）用於鍍製各種金屬

在電子（zǐ）科技快速發展的時代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應用，所以電源的類型也隨（suí）之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種（zhǒng）電源與普通的電源有一（yī）定的區別（bié），單是電源的（de）外觀就有明顯的不同。

     真空（kōng）鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物（wù）質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被（bèi）反（fǎn）射（shè）掉，在光學瞄準鏡中（zhōng）有許多透鏡和折射鏡，整個加（jiā）起來（lái）可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍（dù）有單層或多（duō）層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反（fǎn）射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整（zhěng）個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿（chuān）率可達（dá）95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或（huò）是紅色，鍍多層增透膜的鏡（jìng）片則呈淡綠色或（huò）暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變了其能量（liàng）的（de）分布。對於單（dān）層（céng）薄膜來說，當增透膜（mó）兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率（lǜ）n=（n1*n2)^(1/2)時（分別（bié）是介（jiè）質1、2的折射（shè）率），才可以使入射光全部透過介質。一般光（guāng）學透鏡都是在空氣中使用，對（duì）於一般折射率在1.5左（zuǒ）右（yòu）的（de）光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使（shǐ）增透薄膜（mó）的厚度=（2k+1)倍四分之一個（gè）波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大範（fàn）圍內和更多波長實（shí）現增透，人們利用鍍多層膜來（lái）實（shí）現。

人們對增透膜的利（lì）用有（yǒu）了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜（mó）技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。