江蘇（sū）MSD係（xì）列直（zhí）流磁控（kòng）濺射（shè）電源

主要型號：

主（zhǔ）要特點：
   A 采用先進的（de）電流（liú）型開關電源技術，減小輸出儲能（néng）元件，
同時（shí）提高了抑製打火及重啟速度，應用在（zài）鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒（héng）功率模式可（kě）選。恒功率模式（shì）相對於（yú）傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工（gōng）藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動識別偽打火現象（xiàng），
充分滿足磁（cí）控濺射工（gōng）藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口IGBT或（huò）MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工藝的重複性（xìng），
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保（bǎo）證了靶麵清（qīng）洗（xǐ）工藝的穩定性（xìng），又提高了靶麵清洗（xǐ）速度；
主要參數均可大範圍連續調（diào）節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和（hé）RS485接口擴展功能，方便實現自動化控（kòng）製。

主要用（yòng）途：

直流磁控濺（jiàn）射（shè）用於鍍（dù）製各（gè）種金屬（shǔ）

在電子科技快（kuài）速發展的時代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或（huò）許正（zhèng）是（shì）因為電源的普遍應（yīng）用，所以電源的類（lèi）型也隨之而多樣。真（zhēn）空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電源有一（yī）定（dìng）的區別（bié），單是電源的外觀就有明顯的不同（tóng）。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽（me）要注意（yì）的嗎（ma）？當光（guāng）線（xiàn）進入不同傳（chuán）遞物質時（如由空（kōng）氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有（yǒu）許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入（rù）射光（guāng）線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或（huò）多層氟化鎂的（de）增透膜，單層增透（tòu）膜可（kě）使反射減（jiǎn）少至1.5%，多層增透膜（mó）則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可（kě）達95%。鍍了（le）單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜（mó）增加透射光強度的實質是（shì）作為電磁波的光波在傳播的過（guò）程中，在不同介質的分（fèn）界麵上，由（yóu）於邊（biān）界（jiè）條件的不同，改變了其能量（liàng）的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數（shù）倍且薄膜（mó）的折射率（lǜ）n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是（shì）在空氣中（zhōng）使用，對於一般（bān）折（shé）射率在1.5左（zuǒ）右的光學玻璃，為使（shǐ）單層膜（mó）達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還（hái）要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一（yī）個波長。單層膜（mó）隻對某一特定波長的電磁波增透（tòu），為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來（lái）實現。

人們對增透（tòu）膜的利用有了很多（duō）的經驗，發現了不少可以作（zuò）為增透膜的材料；同時也掌握了（le）不（bú）少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各（gè）業，為（wéi）人類科技進步作（zuò）出了重大貢獻。