上海MSD係（xì）列直流磁控濺（jiàn）射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電（diàn）流型開關電源技術，減小輸（shū）出儲（chǔ）能元（yuán）件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明（míng）顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選（xuǎn）。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能（néng）保（bǎo）證鍍（dù）膜工藝（yì）的重複性。
  C 具有理想的電（diàn）壓陡降（jiàng）特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程（chéng）的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可（kě）選擇手動控製/模擬量接口控（kòng）製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
  F 采用進口（kǒu）大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小（xiǎo）、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短（duǎn）路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既（jì）保證了靶麵清洗工（gōng）藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主（zhǔ）要參數（shù）均（jun1）可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動（dòng）化控（kòng）製。

主要用途：

直流磁（cí）控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技快速發展（zhǎn）的時代中，電源的（de）應用可以說是隨處可見的，或許正是因（yīn）為（wéi）電源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣（yàng）。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種電源（yuán）與普通的電源有一定的區別，單是電源的外（wài）觀（guān）就有明顯的不同。

     真空（kōng）鍍膜機光（guāng）學鍍膜加工上（shàng）有什麽（me）要注意的嗎？當光（guāng）線（xiàn）進入不同傳遞物（wù）質時（如（rú）由空氣進入玻璃（lí）），大約有5%會（huì）被反（fǎn）射掉，在光學（xué）瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達（dá）30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多（duō）層氟化鎂的增透膜（mó），單層增透膜可使反射減（jiǎn）少至1.5%，多層增透（tòu）膜則可讓反射降低至0.25%，所以（yǐ）整個瞄準（zhǔn）鏡如果加以適當鍍膜，光線透（tòu）穿率（lǜ）可達95%。鍍了單層（céng）增透膜的鏡片（piàn）通常是藍紫（zǐ）色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增（zēng）加透（tòu）射光強度的（de）實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質的分界麵上（shàng），由於邊界條件的不同，改變了其能（néng）量的分布。對於單層薄膜來說，當增透（tòu）膜兩邊介質不同時，薄膜厚（hòu）度為（wéi）1/4波（bō）長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質（zhì）1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜（mó）達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近（jìn）1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對（duì）某一特定波長的電磁波增透，為使在更大範圍內和更多波（bō）長實現增透（tòu），人們利用鍍多層膜來實（shí）現（xiàn）。

人們對增（zēng）透（tòu）膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的（de）材料；同時也掌握了（le）不少先進的鍍膜技術（shù），因（yīn）此增透膜的應用涉（shè）及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為（wéi）人類科技（jì）進步作出了重大貢獻。