上海MSD係列直流磁控濺射電源（yuán）

主要型（xíng）號（hào）：

主（zhǔ）要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式（shì）可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工（gōng）藝的重複（fù）性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動（dòng）識別偽打火現（xiàn）象，
充（chōng）分滿足磁控濺射工藝（yì）過程（chéng）的連續性。
  D 主要參（cān）數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊（xùn）接口（kǒu）。
  F 采用進（jìn）口（kǒu）大（dà）功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調（diào）製技（jì）術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係（xì）列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複（fù）性，
並且具有抑製（zhì）靶材弧光放（fàng）電（diàn）及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清（qīng）洗工藝的穩定性，又（yòu）提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調（diào）節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現（xiàn）自動化控製。

主（zhǔ）要用途（tú）：

直流磁控濺射用於鍍製（zhì）各種金屬

在電子科技（jì）快（kuài）速發展的時代中，電源的應用可以說是隨處可見（jiàn）的，或許正是因為電源（yuán）的普遍應用，所以電源的類型也隨（suí）之而多樣（yàng）。真空鍍膜電（diàn）源是眾多電源類型中的一種，這種（zhǒng）電（diàn）源與普通的電源（yuán）有一定（dìng）的區別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光（guāng）學鍍（dù）膜加（jiā）工上有什麽要注（zhù）意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（shí）（如由空氣進（jìn）入玻璃），大約有5%會（huì）被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折（shé）射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透（tòu）膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄（miáo）準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達（dá）95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍（dù）多層增透膜的鏡片則（zé）呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波（bō）的光波在傳播的過程中，在不同介質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變（biàn）了其能量的分布（bù）。對於單層（céng）薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數（shù）倍且薄膜的折（shé）射（shè）率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別（bié）是介質1、2的折射率），才（cái）可以使入（rù）射（shè）光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使（shǐ）單層（céng）膜達到100%的（de）增透效果（guǒ），可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度（dù）=（2k+1)倍四分之一個波長（zhǎng）。單層膜隻對某一特（tè）定波長的電磁波增透，為使在更大範圍內（nèi）和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的利用有了（le）很（hěn）多的經（jīng）驗，發現了不少可以作為增透膜（mó）的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫（yī）學、軍事、太空探索等各行（háng）各業，為人類（lèi）科技進步作出了重大貢（gòng）獻。