武漢MSD係列直流（liú）磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關（guān）電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提（tí）高了抑製打火及重（chóng）啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能（néng）保（bǎo）證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想（xiǎng）的電壓陡降特性，自動識別（bié）偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選（xuǎn）擇手動控製/模擬量接（jiē）口控製，可選配（pèi）RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性（xìng）能穩定可靠（kào），生產工藝嚴（yán）格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充（chōng）分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶（bǎ）材弧（hú）光放電及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵（miàn）清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高（gāo）；
PLC接口和（hé）RS485接（jiē）口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬（shǔ）

在電子科技快（kuài）速發展的時代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應用，所（suǒ）以電源的類型也隨之（zhī）而多樣。真空鍍膜電源是（shì）眾多電（diàn）源類型中的一種，這種電源與普通的電源有一定的區別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機（jī）光學鍍膜加工上有什（shí）麽要注意的嗎？當光線（xiàn）進入不（bú）同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大（dà）約有（yǒu）5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達（dá）30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多（duō）層氟化鎂的增透（tòu）膜，單層增透膜（mó）可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄（miáo）準鏡如果加以（yǐ）適當鍍膜，光線透穿率（lǜ）可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色（sè）。

真空鍍膜機增透（tòu）膜增加透射光強度的實質是作為電（diàn）磁波的光波（bō）在傳播的過程中，在不同介質的分界麵上（shàng），由於邊界條件的不同（tóng），改變了其能量的分布。對於單層（céng）薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折（shé）射率（lǜ）n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的（de）折射率），才可以使入射（shè）光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折（shé）射（shè）率在1.5左右的光（guāng）學玻璃（lí），為使單層膜達到100%的增透效（xiào）果，可使（shǐ）n1=1.23，或接近1.23；還要使（shǐ）增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜（mó）來實現。

人們對增（zēng）透（tòu）膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可以（yǐ）作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術（shù），因此增透（tòu）膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。