武漢MSD係列直流磁控濺射電源

主要型（xíng）號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減（jiǎn）小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具（jù）備恒流/恒功率（lǜ）模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流（liú）模式，
更能保證鍍膜（mó）工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自（zì）動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範（fàn）圍調節
  E 可選擇手動（dòng）控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采（cǎi）用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控（kòng）製係（xì）統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材弧光放（fàng）電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連（lián）續調（diào）節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功（gōng）能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用（yòng）於鍍製（zhì）各種金屬

在電子科技快速發（fā）展的時代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許正（zhèng）是因為電源的（de）普遍（biàn）應用，所以電源的（de）類型也隨之（zhī）而多樣。真（zhēn）空鍍膜電源是（shì）眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電（diàn）源有一定的區別，單是電源的外（wài）觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光（guāng）學鍍膜加工上有什（shí）麽要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如（rú）由（yóu）空氣進入玻璃），大（dà）約有5%會被反射掉，在光（guāng）學瞄準鏡中（zhōng）有許多透鏡和（hé）折射鏡，整個（gè）加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光（guāng）學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透（tòu）膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反（fǎn）射降低至（zhì）0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層（céng）增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅（hóng）色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫（zǐ）色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光（guāng）波（bō）在傳播的過程中，在不同介質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變了（le）其能量的分布。對於單（dān）層薄膜來說，當增（zēng）透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數（shù）倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別（bié）是介質1、2的（de）折（shé）射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光（guāng）學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的（de）光學（xué）玻璃（lí），為使單層膜達到100%的增透效果，可使（shǐ）n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度（dù）=（2k+1)倍四分之（zhī）一個波長。單層膜（mó）隻對某一特（tè）定（dìng）波長的電磁波增透（tòu），為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們（men）對增透膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材料；同（tóng）時也掌握了不少先進的（de）鍍膜技術，因此增透膜的應用涉（shè）及（jí）醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步（bù）作出了重大（dà）貢獻。