武漢MSD係列直流磁控濺射電源

主要（yào）型號：

主要特（tè）點：
   A 采用（yòng）先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及（jí）重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式（shì）相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的（de）電壓陡降特性，自（zì）動識別（bié）偽打火現象，
充（chōng）分滿足磁控濺（jiàn）射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調（diào）節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊（xùn）接口（kǒu）。
  F 采用進口大（dà）功率IGBT&MOS模塊（kuài）
采用先（xiān）進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定（dìng）可靠（kào），生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分（fèn）保證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑製靶（bǎ）材弧光放電及抗短路功（gōng）能，
具（jù）有極佳的負載（zǎi）匹配能力，既保（bǎo）證了靶麵（miàn）清洗工（gōng）藝的穩（wěn）定性，又提高（gāo）了靶麵清洗速度；
主要（yào）參（cān）數均可大範圍連續調節；
方便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在（zài）電子科技快速（sù）發展的時（shí）代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電（diàn）源（yuán）有（yǒu）一定（dìng）的（de）區別，單是電源的（de）外觀就有明顯的不同。

     真（zhēn）空鍍（dù）膜（mó）機光（guāng）學（xué）鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉（diào），在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現（xiàn）代光學透鏡通常都（dōu）鍍有（yǒu）單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則（zé）可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加（jiā）以（yǐ）適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜（mó）的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中（zhōng），在不同介（jiè）質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變（biàn）了其（qí）能量的分布。對於（yú）單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折（shé）射率n=（n1*n2)^(1/2)時（shí）（分別是介質1、2的折射率），才可以使（shǐ）入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是（shì）在空氣（qì）中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特定波（bō）長（zhǎng）的電磁波增透，為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多（duō）層膜來實現。

人們對增透膜（mó）的利用有了很多的經驗，發（fā）現了不少可以作為增透膜的材（cái）料；同時也掌握了（le）不少先進的鍍膜技（jì）術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空（kōng）探索（suǒ）等各（gè）行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。