浙江MSD係（xì）列直流磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開（kāi）關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提（tí）高了抑製打火及重啟速（sù）度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模（mó）式可（kě）選（xuǎn）。恒功率模式相對於傳統的恒流模式（shì），
更能保證鍍膜工藝（yì）的重複性。
  C 具有理想的電壓陡（dǒu）降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射（shè）工藝過程的連（lián）續性。
  D 主要（yào）參數可大範（fàn）圍（wéi）調（diào）節
  E 可選擇手動（dòng）控製/模擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用（yòng）先進的PWM脈寬調製技術，使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功（gōng）能（néng）全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並（bìng）且（qiě）具有抑製靶（bǎ）材弧光放電及（jí）抗短（duǎn）路功能（néng），
具有極佳的負載匹配能力（lì），既保證了靶麵（miàn）清（qīng）洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清（qīng）洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實（shí）現自動（dòng）化（huà）控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金（jīn）屬

在電子科（kē）技快速發展的時代中，電源的應用可以說是（shì）隨處可見的，或許正是（shì）因為電源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空（kōng）鍍膜電源是眾多電源類（lèi）型（xíng）中的一種，這種電源與普通的電（diàn）源有一定的（de）區（qū）別，單是電（diàn）源的（de）外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學（xué）鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同（tóng）傳遞（dì）物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光（guāng）學瞄（miáo）準鏡中有許（xǔ）多透鏡和折射鏡，整個加起來（lái）可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡（jìng）通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增（zēng）透膜可使反射（shè）減少至1.5%，多層增透膜則可（kě）讓反射降低至0.25%，所（suǒ）以整個瞄（miáo）準鏡（jìng）如果加以適當鍍（dù）膜（mó），光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通（tōng）常是藍紫色或是紅色，鍍多層增（zēng）透膜（mó）的鏡片則呈淡綠色或（huò）暗紫色（sè）。

真空鍍膜機增透膜增加透（tòu）射光強度的實質是作為電磁波（bō）的光波在傳播的過（guò）程中，在不同介質的分（fèn）界麵上，由於（yú）邊界條件的不同，改變了其能量的（de）分布。對於單層薄膜來（lái）說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚（hòu）度為1/4波長的（de）奇數倍且薄膜的折射率（lǜ）n=（n1*n2)^(1/2)時（分（fèn）別是（shì）介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學（xué）透鏡都是在空氣中使用，對（duì）於一般折射率在1.5左（zuǒ）右的光學玻璃，為使單（dān）層膜（mó）達到100%的增透效果，可（kě）使n1=1.23，或接近1.23；還要（yào）使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特定波長的（de）電磁波增透，為（wéi）使在更大範（fàn）圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可（kě）以作為增（zēng）透（tòu）膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的（de）應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各（gè）業，為人類科技（jì）進步作出了重大貢獻。