浙江MSD係列直流磁控濺射電源

主（zhǔ）要（yào）型號：

主要特點：
   A 采（cǎi）用先進的（de）電流型開關電（diàn）源技術，減小輸出儲能（néng）元件（jiàn），
同時提高了抑（yì）製（zhì）打火及重啟速度，應用（yòng）在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡（dǒu）降（jiàng）特性，自動識別（bié）偽打（dǎ）火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續（xù）性。
  D 主要（yào）參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用（yòng）進口大（dà）功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈（mò）寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采（cǎi）用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹（pǐ）配（pèi）能力，既（jì）保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺（jiàn）射用於（yú）鍍製各種（zhǒng）金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應用，所（suǒ）以電源的類型也隨（suí）之（zhī）而多樣（yàng）。真空（kōng）鍍膜電源是眾多電源類（lèi）型中的一種，這種電源與普（pǔ）通的（de）電源有一定的區（qū）別（bié），單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機（jī）光學鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同傳（chuán）遞物質時（如由空氣進入玻（bō）璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透（tòu）鏡和（hé）折射鏡，整個加起來可以讓（ràng）入射光線損失達30%至40%。現代光（guāng）學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減（jiǎn）少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加（jiā）以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了（le）單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是（shì）紅色，鍍多（duō）層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫（zǐ）色。

真空鍍膜機增透膜增加透射（shè）光強度的實質是（shì）作為電磁波的光波在（zài）傳（chuán）播的過程中，在不同介質的分界（jiè）麵上，由於邊界條件的不（bú）同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同（tóng）時（shí），薄膜厚度為（wéi）1/4波（bō）長的奇數倍（bèi）且薄膜的折射（shè）率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折（shé）射率（lǜ）），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波（bō）長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大範圍內和更多波長實現增（zēng）透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增（zēng）透膜的利用有（yǒu）了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌（zhǎng）握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的（de）應（yīng）用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步（bù）作出了重大貢獻（xiàn）。