上（shàng）海（hǎi）MS係列勵磁多波形電源

主要型號：

主（zhǔ）要（yào）特點：
   A 可（kě）選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形，波形的蕞高值和蕞低值可獨立設置。
   B輸出（chū）電壓範（fàn）圍：-40V~+40V。
   C波形頻率範圍：0.1-50Hz
   D三角波（bō）、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控（kòng）製，可（kě）選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使（shǐ）用（yòng）進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可（kě）靠，生產工藝嚴格完（wán）善。
該係（xì）列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧（hú）光放電及抗（kàng）短路功能，
具有極佳的（de）負（fù）載匹配能力，既保證了靶（bǎ）麵清洗工藝的穩定性，又提（tí）高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口（kǒu）和RS485接口（kǒu）擴展功能，方（fāng）便（biàn）實現自（zì）動化控製。

主要用途：

MS係（xì）列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧（hú）靶外圍磁場線圈，產生周（zhōu）期性可變磁磁場，使多弧輝光由原來的集中放電變為均勻放電（diàn），提高工件膜層質量

在真空鍍膜時，使用（yòng）直流負偏壓電源，其中運用直流電源，這個（gè）電源的電（diàn）子方向一直統一，會導致單一品種（zhǒng）電荷堆（duī）積（jī）過高與控製源中和。也就是說（shuō）用來提供動力的正負極被（bèi）中和了（le）。然後磁控濺射將不再持續。所以選（xuǎn）用脈衝（chōng）電源。真空鍍膜一（yī）種由（yóu）物理辦法（fǎ）發生薄（báo）膜資料的技能。在真空室內資料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的外表上。此項技能樶先用於出產（chǎn）光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等。後（hòu）延伸到其他功用薄膜，唱片（piàn）鍍鋁、裝修（xiū）鍍膜和資料外表改性等。如手表（biǎo）外殼鍍仿金色，機械（xiè）刀具鍍膜，改變加工紅硬性。真空鍍膜是一種由物理（lǐ）方法產生薄膜材料的技術，在真空室內材料的原子從加熱源（yuán）離析出（chū）來打（dǎ）到被鍍物體的表麵上。

真空鍍膜電源：

(1)在真空鍍膜機運（yùn）轉正常情（qíng）況下，開動真空鍍（dù）膜機時，必須先開水管，工作中應隨時（shí）注（zhù）意水壓。

(2)在離子轟擊和蒸發時，應特別注（zhù）意高壓電線接頭，不（bú）得觸動，以防（fáng）觸電。

(3)在用（yòng）電子槍鍍膜時，應在鍾罩外圍上鋁板。觀（guān）察窗的玻璃樶好用鉛玻璃，觀（guān）察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防（fáng）X射線侵害人體。

(4)鍍製多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置（zhì），及時排除有害粉塵。

(5)易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。

(6)酸洗夾具應在通風裝置內進行，並要戴橡皮手套。

(7)把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。

(8)工作完畢應斷電、斷水。