複合銅箔優點1：能量密度高由於銅和鋁的密度分別為8.96和2.7g/cm3，高於PET薄膜的1.37g/cm3，因此可（kě）以用PET材料代替一些銅（tóng）或鋁來減輕箔的重量。假設1GWh鋰電（diàn）池的正負箔量為1200萬平方米，銅箔厚度為6微米（mǐ），鋁（lǚ）箔厚度為1

說起單極脈衝（chōng）磁控濺射電源，可能（néng）有點困惑，但我想說的是，它是對直流磁控濺射電源的升級，是不是突然明（míng）白了？脈衝（chōng）磁控濺射是用矩形波電（diàn）壓（yā）脈衝電源代替傳統直流電源的一種方法。脈衝濺射可以有（yǒu）效地（dì）抑製電弧的產生，消（xiāo）除由（yóu）此產生的薄膜缺陷，同（tóng）時可以提高濺射的

脈衝偏壓電源是真空（kōng）電弧（hú）離子（zǐ）鍍和磁控濺射鍍膜或其他真空物理氣相沉積設備的重（chóng）要組（zǔ）成（chéng）部分，對於不同的鍍膜工藝，偏壓電源也分為不同（tóng）的類型根據波形可以分為：一、直流偏壓電源二、直流（liú）脈衝偏置（zhì）主要特點1.高頻單極（jí）脈衝對工件施加偏壓，與直流偏壓相比（bǐ），由於電

離（lí）子（zǐ）源（yuán）電源主要利用離子氣體轟擊基材，較好地清洗基材表（biǎo）麵的油漬，增強塗層後的附（fù）著力。隨著市場對（duì）產品（pǐn）質量的要求越來越高，真空鍍膜（mó）廠家（jiā）也想出了各種方法來提高產品質（zhì）量，以滿足客戶的檢測要求（qiú）。離子源電源旨在從生產源頭控製質量。在真空鍍膜的生產過程中，

在電子設備中，偏壓電（diàn）源是用於提供穩定（dìng）電壓供應的常見類型的電源。直流偏壓和脈衝偏壓是兩種常見的偏壓電源。本文將詳細比（bǐ）較這兩種偏（piān）倚方法，以幫助（zhù）讀者更好地理解它們與適用場景之間的差異。直流偏壓是提供穩定電壓信號的恒定電壓（yā）輸出。在直（zhí）流偏壓電源（yuán）中，輸

離子源電源的工（gōng）作原理主要是基於氣體放電原理。當氣體在離子源的陽極（jí）和陰極之間通過時（shí），其陽極的正電壓與內外陰極兩（liǎng）端之間施加（jiā）的強磁場（chǎng）相互作用，產生等離子體。等離子體中的離子受到陽極電場（chǎng）的驅動（dòng），導致離子源產（chǎn）生離子束射流。此外，不同類型（xíng）的離子源，如高