主要型號:
型(xíng)號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風(fēng)冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波(bō)三種波形,波形的(de)最高值和最低值可獨立設(shè)置(zhì)。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻(pín)率(lǜ)範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比(bǐ)10%~90%
E 可選擇(zé)手動控製/模(mó)擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用(yòng)進(jìn)口IGBT或MOSFET作為功率開(kāi)關器(qì)件,
體積小、重(chóng)量輕(qīng)、功能全、性能穩(wěn)定可靠,生產工藝嚴格(gé)完善。
該係列產品采用先進的(de)DSP控製係統,充分(fèn)保證(zhèng)鍍膜工藝(yì)的重複性,
並且具(jù)有抑製靶材弧光放電及抗短路功(gōng)能,
具有極佳(jiā)的負載匹配能力,既保證了靶麵(miàn)清洗工藝的穩定性,又提(tí)高了靶麵清洗(xǐ)速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方(fāng)便維護(hù),可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形輸(shū)出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈(quān),產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電變為均(jun1)勻放(fàng)電,提高工件膜層質量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻(pín)開關電(diàn)鍍電(diàn)源應用在金屬表麵處理及小功率範(fàn)圍內的國內市場已經接(jiē)受,具(jù)有(yǒu)廣闊的市場前景。但(dàn)產品主要局限於(yú)1500A以下的中小(xiǎo)功率(lǜ)領域,在國內也隻有少量(liàng)廠家生(shēng)產,從技術角度(dù)看主要(yào)限於硬開關變換模式和模擬控製方式,可靠性、EMC及工藝結(jié)構等方麵具有明顯的局限性,同焊接等(děng)領域全麵推(tuī)廣應用開關式電源的景況具有較大差距。
真空(kōng)鍍膜(mó)是指在高(gāo)真空的(de)條件下加熱金屬或非金屬材料,使(shǐ)其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕(jué)緣體)表麵而形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜這一塊(kuài)是(shì)真空應用(yòng)領域的重要方麵,在真空中以真空(kōng)技術為基礎(chǔ),把物理方法和化學方法利用起來,通過吸收(shōu)分子束、離子束、電子(zǐ)束、等離子(zǐ)束、射頻(pín)和磁控等一係列(liè)高新技術,在科學研究和實際生產中,為薄膜製備提供一種新(xīn)工藝,簡單的一(yī)點來說,要在真空中利用合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基(jī)板、基體等等)進行凝固並沉積,這種方(fāng)法稱為真空鍍膜,那真空鍍(dù)膜電源就可想而知(zhī),眾所周知,在一些材料的表麵(miàn)上(shàng)鍍上一層薄膜,就可以使這種材料具有多種性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;