主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰(fēng)值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻(què)方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特(tè)點:
A 可選擇三角波、矩形波、正(zhèng)弦波三種(zhǒng)波形,波形(xíng)的最(zuì)高值和最(zuì)低值可獨立設置。
B輸出電(diàn)壓範圍:-40V~+40V。
C波(bō)形頻率範圍(wéi):0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接(jiē)口(kǒu)控製(zhì),可選配RS485通(tōng)訊接口。
采用先進的PWM脈(mò)寬調製(zhì)技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積(jī)小、重量輕、功能全、性能(néng)穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係(xì)統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光放(fàng)電及抗短路功能,
具有極佳(jiā)的負載匹配能力,既保證了靶麵清洗工藝(yì)的穩定(dìng)性(xìng),又(yòu)提高了靶麵(miàn)清(qīng)洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠(kào)性高(gāo);
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動化控製。
主要用途(tú):
MS係列勵(lì)磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產(chǎn)生周期性可變磁磁場,使多(duō)弧輝光由原來的集中放電變為均(jun1)勻放電,提高(gāo)工件膜層質量(liàng)

真空鍍膜電源廠家(jiā)告訴你高頻開關電鍍電源(yuán)應用在(zài)金屬表麵處理(lǐ)及小(xiǎo)功率範圍內的國內(nèi)市(shì)場已經(jīng)接受,具有廣闊的市場前景。但產(chǎn)品主(zhǔ)要局限(xiàn)於(yú)1500A以下的中小功率領域,在(zài)國內也隻有(yǒu)少量(liàng)廠家(jiā)生產,從(cóng)技術角度看主要限於(yú)硬開關變換模式和模(mó)擬控製方式,可(kě)靠性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性,同焊接等領域全麵推廣應用開關式電源的景況具有較大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條件(jiàn)下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而(ér)形成薄(báo)膜的一種方法。
真空鍍膜這一塊是真空應用領(lǐng)域的重要方麵(miàn),在(zài)真空中以真(zhēn)空技術為基礎,把物理(lǐ)方(fāng)法和化(huà)學方(fāng)法利用起來,通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列高新技術,在科學研究和實(shí)際生產中(zhōng),為薄膜製備提(tí)供一(yī)種新工藝,簡單的一點來說,要在真空中利用(yòng)合金、金屬(shǔ)或化合物(wù)進行蒸發和(hé)濺射,並讓被(bèi)塗覆的物體(tǐ)(有基片、稱基板、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍膜(mó)電源就可想而知,眾所周知,在一些材料的表麵(miàn)上鍍上一層薄膜,就可(kě)以使(shǐ)這種材料具(jù)有多種性能(néng),例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;
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