主要型號:
型(xíng)號 | 功率(lǜ)(W) | 工作電(diàn)壓(yā)(V) | 蕞大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三角波、矩形波、正(zhèng)弦波三(sān)種波形,波形的蕞高值和蕞低值可獨立設置。
B輸出電壓範圍(wéi):-40V~+40V。
C波形頻(pín)率範(fàn)圍(wéi):0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接口(kǒu)控製,可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或(huò)MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全(quán)、性能穩定可(kě)靠,生(shēng)產工藝嚴(yán)格完善。
該係列產品采用先進(jìn)的DSP控製係(xì)統,充分保(bǎo)證鍍(dù)膜工藝的(de)重複性,
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能,
具(jù)有(yǒu)極佳的負載匹配能力,既保證了靶(bǎ)麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數(shù)均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自(zì)動化控製。
主要用途:
MS係(xì)列(liè)勵磁多波形電源選(xuǎn)擇多種(zhǒng)電壓波形(xíng)輸出。通過驅動多(duō)弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中(zhōng)放電變(biàn)為均勻放電,提高工件膜層質量

在真(zhēn)空鍍膜時,使用直流(liú)負偏壓電源,其中運用直流電源,這個電(diàn)源的電子方向(xiàng)一(yī)直(zhí)統一,會導(dǎo)致單一品(pǐn)種電荷堆積過高(gāo)與控製源中和。也就是說用來提供動力的正負(fù)極被中和了。然後磁控(kòng)濺射(shè)將不再持(chí)續。所以選用脈衝電源。真空鍍膜一種由(yóu)物(wù)理辦法發生薄膜資料的技能。在真空室內資料的(de)原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的外表上。此項技能樶(zuī)先用於出產光學鏡片,如航海望遠鏡鏡片等。後延伸到其他功(gōng)用薄膜,唱片鍍鋁、裝修鍍膜和資料外表改性等。如手表外殼鍍仿金(jīn)色,機械刀具鍍膜(mó),改(gǎi)變加工紅硬性。真空鍍膜是(shì)一種由物理方法產生薄膜材(cái)料的(de)技術,在真空室內材(cái)料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物(wù)體的表麵(miàn)上。

(1)在真(zhēn)空鍍膜機運轉正常情況下,開動真空鍍膜機時(shí),必須先(xiān)開水管,工作中應隨時注意水壓。
(2)在離子轟擊和(hé)蒸發(fā)時,應特別注意高壓電線接頭,不得觸動,以防觸電。
(3)在用電子(zǐ)槍鍍膜時,應在鍾罩外圍上鋁(lǚ)板(bǎn)。觀察(chá)窗的玻璃樶好用鉛玻(bō)璃,觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。
(4)鍍製多層介質膜的(de)鍍膜間,應安裝(zhuāng)通風吸(xī)塵裝置,及時排除有害粉塵(chén)。
(5)易燃有(yǒu)毒(dú)物品要妥善保管,以防失火中毒。
(6)酸(suān)洗夾具應(yīng)在通風裝置內(nèi)進行,並要戴橡皮手套。
(7)把零件放入酸洗或堿洗槽中時,應輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆(pén)應加蓋。
(8)工作完畢應斷(duàn)電、斷水。